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이용수
Ⅰ. 서론
Ⅱ. 실험 방법
Ⅲ. 결과 및 고찰
Ⅳ. 결론
감사의 글
참고문헌
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O₂/SF₆, O₂/N₂와 O₂/CH₄ 플라즈마를 이용한 폴리카보네이트 건식 식각
Applied Science and Convergence Technology
2008 .01
Pulse DC O₂ 플라즈마를 이용한 PMMA와 폴리카보네이트 기판의 건식 식각
한국진공학회 학술발표회초록집
2010 .08
자성 메모리를 위한 나노미터 크기의 자기터널접합 구조의 고밀도 플라즈마 식각
한국자기학회 학술연구발표회 논문개요집
2005 .12
Reactive Ion Etching with High Density Plasma for Two-Step Texturing
한국진공학회 학술발표회초록집
2013 .02
이온빔 식각을 통한 저마찰용 표면 구조 제어 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2010 .02
TCP 장치에서 Cl₂ / He / HBr을 이용한 Poly - Si 건식식각시 발생하는 진행성 etch rate 감소 현상 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
1997 .02
플라즈마 이온 식각공정에서의 미세 식각 형상에 관한 이론적 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
1994 .02
C4F8/Ar 플라즈마를 이용한 SiO2 원자층 식각에서 활성종 구성 비율에 따른 식각 특성 분석
한국진공학회 학술발표회초록집
2019 .08
저손상 식각 기술을 이용한 초미세 패턴의 식각 프로파일 향상에 관한 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .08
ICP 식각 공정에서의 컨택홀의 기울어진 식각 프로파일
한국진공학회 학술발표회초록집
2017 .08
Pt 박막의 반응성 이온식각
Applied Science and Convergence Technology
1996 .09
건식식각을 이용한 n-GaN 표면의 Cylinderical Trapezoid 형성과 식각깊이 변화에 따른 수직형 발광다이오드 특성 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2010 .02
식각 용기 가열에 의한 라디칼 손실 제어가 고선택비 산화막 식각에 미치는 영향
Applied Science and Convergence Technology
1996 .06
CHF₃ / C₂F6 반응성이온 건식식각에 의해 형성되는 실리콘 표면변형의 회복에 관한 연구 (Ⅱ)
한국진공학회 학술발표회초록집
1992 .02
SF6와 NF3를 이용한 SiNx의 건식식각특성과 관련된 변수에 대한 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2012 .08
건식식각공정물성데이터베이스의 생산전략
한국진공학회 학술발표회초록집
2010 .08
반응성 이온 식각 공정을 활용한 다결정 실리콘 태양전지의 표면 특성 분석
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .02
자화 유도 결합 플라즈마의 산화물 건식 식각 특성에 관한 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2013 .08
CHF₃ / C₂F6 반응성이온 건식식각에 의해 형성되는 실리콘 표면의 잔류층 및 손상층에 관한 연구 (Ⅰ)
한국진공학회 학술발표회초록집
1992 .02
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