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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술대회자료
- 저자정보
- 발행연도
- 2003.4
- 수록면
- 1,043 - 1,047 (5page)
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With the advancement of micro-systems and nanotechnology, the need for ultra-precision fabrication
techniques has been steadily increasing. In this paper, a novel nano-structure fabrication process that is
based on the fundamental understanding of nano-scale tribological interaction is introduced. The process,
which is called Mechano-Chemical Scanning Probe Lithography (MC-SPL), has two steps, namely,
mechanical scribing for the removal of a resist layer and selective chemical etching on the scribed regions.
Organic monolayers are used as a resist material, since it is essential for the resist to be as thin as possible in
order to fabricate more precise patterns and surface structures. The results show that high resolution patterns
with sub-micrometer scale width can be fabricated on both silicon and various metal surfaces by using this
technique.
techniques has been steadily increasing. In this paper, a novel nano-structure fabrication process that is
based on the fundamental understanding of nano-scale tribological interaction is introduced. The process,
which is called Mechano-Chemical Scanning Probe Lithography (MC-SPL), has two steps, namely,
mechanical scribing for the removal of a resist layer and selective chemical etching on the scribed regions.
Organic monolayers are used as a resist material, since it is essential for the resist to be as thin as possible in
order to fabricate more precise patterns and surface structures. The results show that high resolution patterns
with sub-micrometer scale width can be fabricated on both silicon and various metal surfaces by using this
technique.
목차
Abstract
1. 서론
2. 기계-화학적 나노리소그래피 기술의 개요
3. 자기조립분자막의 표면파손특성
4. 미세 패턴 및 표면형상의 제작
5. 결론
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