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학술대회자료
저자정보
성인하 (연세대학교) 김대은 (연세대학교) 장원석 (한국기계연구원)
저널정보
대한기계학회 대한기계학회 춘추학술대회 대한기계학회 2003년도 생산 및 설계공학 부문 추계학술대회 논문집
발행연도
2003.11
수록면
57 - 60 (4page)

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Probe-based nanolithography techniques have attracted considerable attention due to their advantages in nano-scale pattern fabrication. However, most of these techniques have the intrinsic problem of relatively low patterning speed compared with other competitive nanofabrication techniques. Mechano-Chemical Scanning Probe Lithography (MC-SPL), which consists of direct mechanical scribing process of an ultrathin resist and subsequent chemical etching process of a substrate material, has the capability of high-speed patterning since the patterning can be achieved by only a direct-writing process without time-consuming physico-chemical reactions shown in another probe-based techniques. In this paper, by using MC-SPL technique, examples of sub-100㎚ width patterns fabricated on silicon and various metal surfaces with hundreds of micrometers per second are demonstrated.
#High-speed patterning(고속 패터닝) #Mechano-chemical nanolithography(기계-화학적 나노리소그래피) #Scanning Probe Microscope(주사탐침현미경)

목차

Abstract
1. 서론
2. 기계-화학적 고속 패터닝 공정 개요
3. 고속 패터닝에 의한 미세패턴제작
4. 결론
후기
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