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Korean Society for Precision Engineering 한국정밀공학회 학술발표대회 논문집 한국정밀공학회 2005년도 추계학술대회 논문요약집
발행연도
2005.10
수록면
511 - 514 (4page)

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To overcome some of the limitations in the conventional photolithography technique, MC-SPL which has advantages such as flexibility and high speed was developed in the past. To make a fine pattern using MC-SPL, there are many variables to control, for example, applied load, scribing speed, chemical etching condition, and etc. In this work, the effect of contact load on the width of the pattern was investigated. The load not only influences the width of the pattern but it also affects the wear of the probe tip. It was found that it is beneficial to load the tip in two stages. Futhermore, the experimental results showed that the pattern width was more sensitive to the initial contact force.
#Chemical etching(화학적 에칭) #Contact load(접촉 하중) #MC-SPL(기계-화학적 리소그래피) #Nano-probe tip(미세 탐침) #SAM(자기 조립 분자막)

목차

ABSTRACT
1. 서론
2. 실험 방법
3. 나노 스케일 패턴 제작
4. 결론
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