SPL에 의한 나노구조 제조 공정 연구

류진화; 김창석; 정명영

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자료유형: 학술대회자료

저자정보: 류진화 김창석 정명영

저널정보: Korean Society for Precision Engineering 한국정밀공학회 학술발표대회 논문집 한국정밀공학회 2005년도 추계학술대회 논문요약집

발행연도: 2005.10

수록면: 343 - 346 (4page)

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The fabrication of mold for nano imprint lithography (NIL) is experimentally reported using the scanning probe lithography (SPL) technique, instead of the conventional E-beam lithography technique. The nanometer scale patterning structure is fabricated by the localized generation of oxide patterning on the silicon (100) wafer surface with a thin oxide layer. The fabrication method is based on the contact mode of scanning probe microscope (SPM) in air. The precision cleaning process is also performed to reach the low roughness value of R<SUB>rms</SUB> = 0.084 ㎚, which is important to increase the reproducibility of patterning. The height and width of the oxide dot are generated to be 15.667 ㎚ and 209.5 ㎚, respectively, by applying 17 V during 350 ㎳.

#Nanoimprint lithography(NIL) #Scanning Probe Lithography(SPL) #mold #Local oxidation

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류진화

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주요연구분야 공학 > 기계공학 > 기계공학 일반

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김창석

소속기관 Pusan National University

주요연구분야 공학 > 기계공학 > 기계공학 일반 자연과학 > 물리학

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정명영

소속기관 이에스피앤메딕

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