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Properties of SiOF Thin Films Deposited By ECRCVD with SiF4 and O2 Gases
대한전자공학회 학술대회
1996 .01
Surface modification of SiOF films by post plasma treatment
한국재료학회 학술발표대회
1997 .01
$N_2O$ 플라즈마 열처리에 의한 저유전율 SiOF 박막의 물성 안정화
한국재료학회지
1998 .01
SiOF 박막의 구조적 특성 및 흡습성에 미치는 불소의 영향
한국재료학회 학술발표대회
1996 .01
Effect of Post Plasma Treatment on Water Absorption and Dielectric Properties of Fluorine Doped $SiO_2$ Films Formed by ECRCVD with $SiF_4$ and $O_2$
한국재료학회 학술발표대회
1996 .01
FTES/$O_2$-PECVD 방법에 의한 SiOF 박막형성
한국재료학회지
1999 .01
The Moisture Absorption Properties and Thermal Stability of SiOF Films
대한전자공학회 학술대회
1997 .01
The Effects of ECRCVD Deposition Conditions on Nanoscale Friction of Hydrogenated Amorphous Carbon Thin Film
한국재료학회 학술발표대회
2003 .01
MICROSTRUCTURE AND DIELECTRIC PROPERTY OF ECRCVD a-C:H:F/a-C:H FILMS FOR LOW-k INTERLAYER DIELECTRICS,
한국재료학회 학술발표대회
1998 .01
Preparation of Low Temperature PECVD SiOF Film and its Integration Issues for Next Generation Devices
한국재료학회 학술발표대회
1998 .01
HDP-SiOF 막의 반응기구에 관한 연구 및 층간절연막 적용 특성 평가 ( The Study on the Reaction Mechanism of HDF-SiOF and Inter-Metal-Dielectric Application )
대한전자공학회 워크샵
1997 .01
IPS property using ion beam irradiation on SiOF surfaces
한국위성정보통신학회논문지
2012 .01
Effect of Plasma Treatment on Properties of Interlayer Dielectric Fluoricated Amorphous Carbon (a-C:F) Prepared by ECRCVD and Cu/Ta/a-C:F/Si Multilayer Structure
한국재료학회 학술발표대회
2002 .01
$SF_6$ 가스를 이용하여 remote PECVD 법에 의해 증착된 저유전율 SiOF 박막의 특성연구
한국재료학회 학술발표대회
1995 .01
Cu(Al)/WN/SiOF/Si 구조의 열적 안정성 연구
한국재료학회 학술발표대회
1998 .01
N2O 플라즈마 열처리를 이용한 저유전율 SiOF 박막의 물성 안정화
대한전자공학회 학술대회
1998 .01
UHV ECRCVD에 의한 저온 Si과 SiGe 에피 증착에 관한 연구
대한전자공학회 학술대회
1994 .01
ECRPECVD법에 의한 SiOF 박막 증착시 $Ar_{+}$ 이온이 고유 응력에 미치는 영향
한국재료학회 학술발표대회
1999 .01
ECR plasma CVD법에 의한 저유전율 SiOF 박막의 특성
한국재료학회지
1997 .01
Fabrication of soluble organic thin film transistor with ammonia ($NH_3$) plasma treatment
한국정보디스플레이학회 International Meeting
2009 .01
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