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대한기계학회 대한기계학회 춘추학술대회 대한기계학회 2009년도 마이크로/나노공학부문 춘계학술대회 논문집
발행연도
2009.5
수록면
274 - 278 (5page)

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이 논문의 연구 히스토리 (2)

2009

극대면적 UV-NIL 장비 개발
최원호 ,  신윤혁 ,  강인구 외 5명 대한기계학회 춘추학술대회 2009.05 학술대회자료

2008

극대면적 UV-NIL 공정에서의 균일 가압 시스템 개발
최원호 ,  신윤혁 ,  여민구 외 6명 대한기계학회 춘추학술대회 2008.11 학술대회자료

초록· 키워드

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A UV Nano Imprint Lithography (UV-NIL) machine has been developed for micro/nanoscale patterning in an extremely large area like ~300×400 ㎟, To get high pattern fidelity, residual layer thickness uniformity, and an air bubble free layer in the large area, the UV-NIL machine has several main components including a silicon rubber uniform pressurizer, a large area UV-LED module, a vacuum pump, etc. Contact and structural analyses have been performed using commercial FEM packages like LS-DYNA and ANSYS. The developed machine has been tested and its performance indices such as pattern fidelity, residual layer thickness uniformity, etc have been measured.
#UV-NIL(UV 나노 임프린트 리소그라피) #uniform pressurizing device(균일기압장치) #pattern fidelity(패턴 충실도) #residual layer(잔류층)

목차

Abstract
1. 서론
2. 균이라압 장치
3. UV-NIL Tool
4. UV-NIL Tool 성능검증
4. 결론
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