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학술저널
저자정보
차남구 (한양대학교 재료화학공학부 마이크로바이오칩센터) 박창화 (한양대학교 재료화학공학부 마이크로바이오칩센터) 조민수 (한양대학교 재료화학공학부 마이크로바이오칩센터) 김규채 (한양대학교 재료화학공학부 마이크로바이오칩센터) 박진구 (한양대학교 재료화학공학부 마이크로바이오칩센터) 정준호 (한국기계연구원 지능형정밀기계연구부) 이응숙 (한국기계연구원 지능형정밀기계연구부)
저널정보
한국재료학회 한국재료학회지 한국재료학회지 제16권 제4호
발행연도
2006.1
수록면
225 - 230 (6page)

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Nanoimprint lithography (NIL) is a novel method of fabricating nanometer scale patterns. It is a simple process with low cost, high throughput and resolution. NIL creates patterns by mechanical deformation of an imprint resist and physical contact process. The imprint resist is typically a monomer or polymer formulation that is cured by heat or UV light during the imprinting process. Stiction between the resist and the stamp is resulted from this physical contact process. Stiction issue is more important in the stamps including narrow pattern size and wide area. Therefore, the antistiction layer coating is very effective to prevent this problem and ensure successful NIL. In this paper, an antistiction layer was deposited and characterized by PECVD (plasma enhanced chemical vapor deposition) method for metal stamps. Deposition rates of an antistiction layer on Si and Ni substrates were in proportion to deposited time and 3.4 nm/min and 2.5 nm/min, respectively. A 50 nm thick antistiction layer showed 90% relative transmittance at 365 nm wavelength. Contact angle result showed good hydrophobicity over 105 degree. $CF_2$ and $CF_3$ peaks were founded in ATR-FTIR analysis. The thicknesses and the contact angle of a 50 nm thick antistiction film were slightly changed during chemical resistance test using acetone and sulfuric acid. To evaluate the deposited antistiction layer, a 50 nm thick film was coated on a stainless steel stamp made by wet etching process. A PMMA substrate was successfully imprinting without pattern degradations by the stainless steel stamp with an antistiction layer. The test result shows that antistiction layer coating is very effective for NIL.
#Nanoimprint lithography #NIL) #Anti-stiction layer #PECVD #plasma enhanced chemical vapor deposition)

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