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조천수 (부산대학교) 이문재 (부산대학교) 오지인 (부산대학교) 임오강 (부산대학교) 정명영 (부산대학교)
저널정보
Korean Society for Precision Engineering Journal of the Korean Society for Precision Engineering 한국정밀공학회지 Vol.28 No.2
발행연도
2011.2
수록면
239 - 244 (6page)

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Nano Imprint Lithography(NIL) is technique for copying a pattern from stamp with nano size pattern in order to replicated the materials. It is very important to demold in order to make NIL process effectively. Self Assembled Monolayers(SAM) coater is manufactured by means of decreasing surface energy with the stamp surface treatment to improve release characteristics. Manufactured device contains tilting and rotation option for increasing process life time by coating on the sidewall of the pattern in stamp. The stamp coated with optimized tilting angle 30° and rotation speed of 10rpm has more imprinting cycles than the stamping coated without tilting and rotation. Effective SAM coating on the sidewall of the pattern in stamp will improve by 50% of process life time.
#Nano Imprint Lithography (나노 임프린트 리소그래피) #Release Layer (이형층) #Self Assembled Monolayers (자기 조립 단분자막)

목차

1. 서론
2. 스탬프 표면처리
3. 실험 및 결과
4. 결론
후기
참고문헌

참고문헌 (2)

참고문헌 신청
오승훈, 최두선, 김창석, 정명영. 광자결정 도파로 성형용 PDMS 스탬프 제작. Journal of the Korean Society for Precision Engineering. 2007 dbpia 조상욱, 오승훈, 김창석, 정명영. 고효율 광학 소자를 위한 전자빔 및 나노임프린트 기술. Journal of the Korean Society for Precision Engineering. 2009 dbpia

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