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한국생산제조학회 한국생산제조학회 학술발표대회 논문집 한국공작기계학회 2007 춘계학술대회 논문집
발행연도
2007.5
수록면
59 - 62 (4page)

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The contact-based nanoimprinting lithography (NIL), such as thermal and/or UV nano-imprint, has been well known as one of the next generation lithography alternatives. Especially, the thermal nano-imprinting lithography technology has the advantages in terms of process simplicity, low cost, high replication fidelity, and relatively high throughput. In case of nanoimprinting process, a master stamp fabrication and its lifetime are key issues in order to fabricate nanoscale patterns on the Si and quartz substrate. The lifetime of the master stamp is caused by using various materials and imprinting pressure to make replica with nanoscale patterns. Generally, the master stamp fabrication cost is proportional increased to fabrication frequency of the nano-patterned master stamp. In this paper, the replication process for the replicas which has the high fidelity and high quality are proposed to get over the short lifetime and high cost problems to fabricate nanoscale stamp. In order to do, thermal imprinting lithography tool which is developed by KIMM was used to do 4inch Si and quartz stamp replication.
#Thermal nanoimprint lithography(TH-NIL) #Nanoscale pattern #Stamp replication and E-beam lithography

목차

Abstract
1. 서론
2. 나노패턴 복제를 위한 고온 나노임프린팅
3. 나노패턴 복제공정 및 결과
4. 결론
참고문헌

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