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자료유형
학술저널
저자정보
유대선 (요업기술원 복합재료센터) 김대성 (요업기술원 복합재료센터) 이승호 (요업기술원 복합재료센터)
저널정보
한국재료학회 한국재료학회지 한국재료학회지 제15권 제12호
발행연도
2005.1
수록면
818 - 823 (6page)

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Sub-micron colloidal silica particles coated with nano-sized ceria were prepared by mixing of its silica and cerium salts hydrolysis, and modified by hydrothermal reaction. By using the slurries with and without hydrothermal modification containing above particles, oxide film coated on silicon wafer was polished. The modified slurries had higher polish rate due to increase of ceria fraction to silica through hydrothermal reaction. They revealed higher stability in wide range of pH $2\~10$ than ceria coated silica slurries without its modification.
#ceria coated silica #hydrothermal treatment #CMP #abrasive #nano-sized ceria

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