Barrier Metal Properties of Remote-Plasma MOCVD TaN and Amorphous Ta-Si-N Layers for Stacked Ferroelectric Capacitor Cell

C. H. Han ,  K. N. Cho ,  J. E. Oh 외 6명

ICVC : International Conference on VLSI and CAD

1997 .01

MOCVD TaN 증착기구에 대한 연구

전규창 ,  김기범 ,  신현국

한국재료학회 학술발표대회

1995 .01

Cu 배선공정을 위한 MOCVD-TaN 확산방지막의 개발

조성래 ,  신동우 ,  김기범

한국재료학회 학술발표대회

1996 .01

Film Properties of Amorphous TaN and Ta - ( Si ) - N Deposited from Remote Plasma MOCVD

한창희 ,  노경봉 ,  백수현 외 5명

대한전자공학회 학술대회

1997 .01

$TaN_x$ 박막의 Cu 확산방지특성

장유진 ,  서봉석 ,  박종욱

한국재료학회 학술발표대회

1999 .01

MOCVD 방법으로 증착된 TaN와 무전해도금된 Cu 박막 계면의 열적안정성 연구

이은주 ,  김정식

한국재료학회 학술발표대회

1998 .01

MOCVD 방법으로 증착된 TaN와 무전해 도금된 Cu박막 계면의 열적 안정성 연구

이은주 ,  김정식 ,  황응림 외 1명

한국재료학회 학술발표대회

1998 .01

Properties and Diffusion Barrier Performance of MOCVD TiN Films

Jung J. Kim ,  Jun K. Kim ,  Jin W. Pa 외 2명

ICVC : International Conference on VLSI and CAD

1997 .01

MOCVD에 의한 신기능소자 , 제조기술개발 ( Development of New Functional Device by MOCVD )

김무성 ,  김현수 ,  김은규 외 5명

특정연구 결과 발표회 논문집

1989 .01

Mocvd 에 의한 신기능소자 제조기술개발 ( Development of New Functional Device by MOCVD )

김무성 ,  김현수 ,  김은규 외 5명

한국통신학회 학술대회논문집

1989 .01

In-situ MOCVD Cu/MOCVD TiN 형성 공정에 관한 연구

최정환 ,  박상기 ,  이재갑

한국재료학회 학술발표대회

1998 .01

Plasma Enhancd MOCVD법에 의해 Pt/Ti/$SiO_2$/Si 위에 제조된 $Ba_{x}Sr_{1-x}TiO_3$박막의 전기적 특성에 관한 연구

이재창 ,  신웅철 ,  윤순길

한국재료학회 학술발표대회

1997 .01

ALD법을 이용해 증착된 TaN 박막이 Cu 확산방지 특성

부성은 ,  이정희 ,  나경일 외 1명

센서학회지

2004 .01

Effects of hydrogen and ammonia partial pressure on MOCVD $Co/TaN_x$ layer for Cu direct electroplating

박재형 ,  문대용 ,  한동석 외 2명

한국재료학회 학술발표대회

2012 .01

Plasma Assisted ALD 장비 계발과 PAALD법으로 증착 된 TaN 박막의 전기적 특성

도관우 ,  김경민 ,  양충모 외 4명

한국반도체및디스플레이장비학회 학술대회

2005 .01

MOCVD 공정에서 화학반응이 장치 내부 열유동에 미치는 영향

박신 ,  김경진 ,  곽호상

한국전산유체공학회 학술대회논문집

2016 .11

MOCVD법으로 다양한 기판위에 성장한 ZnO 박막의 광학적, 구조적 특성 평가

공보현 ,  김동찬 ,  한원석 외 5명

한국재료학회 학술발표대회

2007 .01

구리 배선공정에서의 CVD TaN 확산방지막에 관한 연구

Im ,  Se-Joon ,  Kim 외 8명

한국재료학회 학술발표대회

1999 .01

Annealing and Post Heat Treatment Effects of Remote Plasma MOCVD Titanium Barrier Metals

장영학 ,  원석준 ,  김종욱 외 6명

대한전자공학회 학술대회

1996 .01