Barrier Metal Properties of Remote-Plasma MOCVD TaN and Amorphous Ta-Si-N Layers for Stacked Ferroelectric Capacitor Cell

C. H. Han ,  K. N. Cho ,  J. E. Oh 외 6명

ICVC : International Conference on VLSI and CAD

1997 .01

강유전 capacitor용 MOCVD amorphous TaN 박막의 확산방지막 특성

한창희 ,  백수현 ,  조광남 외 5명

한국재료학회 학술발표대회

1997 .01

MOCVD TaN 증착기구에 대한 연구

전규창 ,  김기범 ,  신현국

한국재료학회 학술발표대회

1995 .01

Plasma Enhancd MOCVD법에 의해 Pt/Ti/$SiO_2$/Si 위에 제조된 $Ba_{x}Sr_{1-x}TiO_3$박막의 전기적 특성에 관한 연구

이재창 ,  신웅철 ,  윤순길

한국재료학회 학술발표대회

1997 .01

MOCVD 방법으로 증착된 TaN와 무전해도금된 Cu 박막 계면의 열적안정성 연구

이은주 ,  김정식

한국재료학회 학술발표대회

1998 .01

통계적 실험 방법에 의한 Ta 및 TaN 박막의 증착 특성

서유석 ,  박대규 ,  이상협 외 2명

한국재료학회 학술발표대회

1999 .01

MOCVD 방법으로 증착된 TaN와 무전해 도금된 Cu박막 계면의 열적 안정성 연구

이은주 ,  김정식 ,  황응림 외 1명

한국재료학회 학술발표대회

1998 .01

Plasma-Enhanced MOCVD법에 의해 MOCVD-Pt 위에 제조된 강 유전체 Sr${Bi}_{2}{Ta}_{2}{O}_{9}$ 박막의 특성

성낙진 ,  최은석 ,  윤순길

한국재료학회 학술발표대회

1997 .01

TaO 고유전박막의 미세조직과 열적안정성

민석홍 ,  정병길 ,  최재호 외 5명

한국재료학회지

2002 .01

Ta/TaN 복합 다층 피막의 기계적 특성

강영권 ,  이종무 ,  최상욱

한국재료학회지

1999 .01

MOCVD법에 의한 $Ta_{2}O_{5}$ 박막의 계면물성

김명호 ,  윤재홍

한국재료학회 학술발표대회

1994 .01

수소 및 암모니아 Remote Plasma MOCVD 증착법에 의한 Tantalum Nitride 박막의 특성

한창희 ,  백수현 ,  노경봉 외 5명

한국재료학회 학술발표대회

1996 .01

Characteristics of Amorphous Ta-Si-N Thin Film for Cu Metallization

김동준 ,  정순필 ,  김용태 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1997 .01

Cu 배선공정을 위한 MOCVD-TaN 확산방지막의 개발

조성래 ,  신동우 ,  김기범

한국재료학회 학술발표대회

1996 .01

PROPERTIES OF (Ba, Sr)TiO$_3$THIN FILMS DEPOSITED BY MOCVD

Pa ,  k ,  H.B. 외 17명

한국재료학회 학술발표대회

1998 .01

Ta-Si-N박막의 조성에 따른 결정구조 및 구리 확산 방지 특성 연구

정병효 ,  이원종

한국재료학회지

2011 .01

MOCVD 법에 의해 증착된 TiO2 박막의 결정구조 및 광학적 특성 ( Structural and Optical Properties of TiO2 Films Deposited by MOCVD )

장동훈 ,  강성준 ,  윤영섭

전자공학회논문지-D

1997 .06

Amorphous Si의 제작과 특성

성영권 ,  이병득 ,  민병무 외 1명

대한전기학회 학술대회 논문집

1984 .07

ELECTRICAL PROPERTIES OF COPPER THIN FILMS PREPARED BY MOCVD

Cho ,  N.I. ,  Pa 외 6명

한국재료학회 학술발표대회

1998 .01