Remote Plasma MOCVD 법을 사용하여 형성된 Titanium Nitride 박막의 Step Coverage 변화에 관한 연구

원석준 ,  장영학 ,  백수현 외 6명

대한전자공학회 학술대회

1995 .01

EFFECT OF VACUUM ANNEALING OF MOCVD TiN ON THE DIFFUSION BARRIER PROPERTY

Lee ,  Jae-Gab ,  Cho 외 7명

한국재료학회 학술발표대회

1998 .01

Plasma Enhancd MOCVD법에 의해 Pt/Ti/$SiO_2$/Si 위에 제조된 $Ba_{x}Sr_{1-x}TiO_3$박막의 전기적 특성에 관한 연구

이재창 ,  신웅철 ,  윤순길

한국재료학회 학술발표대회

1997 .01

Enhancement of Selective Cu-MOCVD by Furnace Annealing and N2 Plasma Pretreatment

민석기 ,  김영석 ,  곽성관 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1998 .01

Barrier Metal Properties of Remote-Plasma MOCVD TaN and Amorphous Ta-Si-N Layers for Stacked Ferroelectric Capacitor Cell

C. H. Han ,  K. N. Cho ,  J. E. Oh 외 6명

ICVC : International Conference on VLSI and CAD

1997 .01

Effects of Post-Annealing on the Characteristics of MOCVD-Cu / TiN / Si Structures by the Rapid Thermal Process

Youn Tae Kim ,  Chi Hoon Jun ,  Jong Tae Baek 외 1명

ICVC : International Conference on VLSI and CAD

1997 .01

후공정 처리에 의한 MOCVD TiN 막질 개선

오상헌 ,  김지용 ,  이재갑

한국재료학회 학술발표대회

1996 .01

수소 및 암모니아 Remote Plasma MOCVD 증착법에 의한 Tantalum Nitride 박막의 특성

한창희 ,  백수현 ,  노경봉 외 5명

한국재료학회 학술발표대회

1996 .01

강유전 capacitor용 MOCVD amorphous TaN 박막의 확산방지막 특성

한창희 ,  백수현 ,  조광남 외 5명

한국재료학회 학술발표대회

1997 .01

Mocvd 에 의한 신기능소자 제조기술개발 ( Development of New Functional Device by MOCVD )

김무성 ,  김현수 ,  김은규 외 5명

한국통신학회 학술대회논문집

1989 .01

MOCVD에 의한 신기능소자 , 제조기술개발 ( Development of New Functional Device by MOCVD )

김무성 ,  김현수 ,  김은규 외 5명

특정연구 결과 발표회 논문집

1989 .01

In-situ MOCVD Cu/MOCVD TiN 형성 공정에 관한 연구

최정환 ,  박상기 ,  이재갑

한국재료학회 학술발표대회

1998 .01

Film Properties of Amorphous TaN and Ta - ( Si ) - N Deposited from Remote Plasma MOCVD

한창희 ,  노경봉 ,  백수현 외 5명

대한전자공학회 학술대회

1997 .01

Properties and Diffusion Barrier Performance of MOCVD TiN Films

Jung J. Kim ,  Jun K. Kim ,  Jin W. Pa 외 2명

ICVC : International Conference on VLSI and CAD

1997 .01

MOCVD 공정에서 화학반응이 장치 내부 열유동에 미치는 영향

박신 ,  김경진 ,  곽호상

한국전산유체공학회 학술대회논문집

2016 .11

새로운 Annealing 방법 ( A New Annealing Method )

홍순관 ,  김철주 ,  박선우

대한전자공학회 학술대회

1988 .07

새로운 AnneaLing 방법

홍순관 ,  박선우 ,  김철주

대한전기학회 학술대회 논문집

1988 .07

Fabrication of soluble organic thin film transistor with ammonia ($NH_3$) plasma treatment

Kim ,  Dong-Woo ,  Kim 외 11명

한국정보디스플레이학회 International Meeting

2009 .01

MOCVD Titanium Nitride ( TiN ) Barrier Layer for Highly Reliable Aluminium ( Al ) Based Multilevel Metallization

M. S. Chae ,  B. H. Jung ,  S. H. Yu

ICVC : International Conference on VLSI and CAD

1997 .01