Chemically Amplified Positive Resists for ArF Excimer Laser Lithography

강영종 ,  이해원 ,  김웅렬 외 2명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1997 .04

Chemically Amplified Positive Resists for ArF Excimer Laser Lithography

안성남 ,  강영종 ,  이해원 외 3명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1996 .10

Charge Reducing Effect of Chemically Amplified Resist

Tetsu ,  o Nakasugi ,  Shunko Magoshi 외 5명

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

Diffusion and surface evaporation of photogenerated acid in basic polymers for PED stability of ArF chemically amplified resists

김백진 ,  권영길 ,  윤효진 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1999 .10

Acid Diffusion Control in Chemically Amplified Positive Resists

김진백 ,  권영길 ,  최재학

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1998 .04

Chemically Amplified Photoresists for ArF Excimer Laser Lithography

김영대 ,  강영종 ,  이해원

대한전자공학회 학술대회

1998 .01

Novel Chemically Amplified Resists for Electron Beam Lithography

이해원 ,  이석규

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1992 .10

Novel Single-Layer Chemically Amplified Resist for 193 nm Lithography

최상준 ,  강율 ,  정동원 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1997 .04

A PED-stabilized Chemically Amplified Resist

김진백 ,  최재학 ,  정민호 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1997 .10

Application of New Empirical Model to the Electron Beam Lithography Process with Chemically Amplified Resists

Young Mog Ham ,  Cheol Hu ,  Chang Nam Ahn 외 4명

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

ArF resist와 EUV resist의 식각특성 비교

권봉수 ,  이학주 ,  김선일 외 2명

한국재료학회 학술발표대회

2007 .01

Dissolution Characteristics and Surface Morphology of Chemically Amplified Positive Resists in X-Ray Lithography

Ji ,  o Nakamu ,  a 외 3명

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

New chemically Amplified Deep-UV Resist Based on Difunctional Protecting Group

이대엽 ,  이시형 ,  정시영 외 2명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1997 .04

PED-Stabilized Chemically Amplified Resists Containing Basic Units in the Matrix Polymer

김진백 ,  최재학 ,  권영길

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1998 .04

Chemically amplified resists based on the norbornene copolymers with steroid derivatives

김진백 ,  이범욱

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1999 .04

Dynamics of ARF regulation that control senescence and cancer

고아람 ,  한수연 ,  송재환

BMB Reports

2016 .01

T-top Free Chemically Amplified Resists Containing Vinyllactam Derivatives

김진백 ,  정민호

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1997 .04

Chemically amplified resists based on the methacrylate polymers with cholic acid derivatives

김진백 ,  이범욱 ,  윤효진 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2000 .04

The Optical System for ArF Excimer Laser Exposure Tool

정해빈 ,  이각현 ,  김도훈 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1997 .01

Chemically Amplified p-Hydroxystyrene Copolymers as KrF Resists

김범석 ,  김영대 ,  이해원

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1997 .04