ArF resist와 EUV resist의 식각특성 비교

권봉수 ,  이학주 ,  김선일 외 2명

한국재료학회 학술발표대회

2007 .01

고주파 증폭을 이용한 영상의 해상도 향상 기법

이정호 ,  박기태 ,  김의성 외 3명

대한전자공학회 학술대회

2010 .06

Super-resolution Techniques based on Temporal Recursion using Optimal and Real Parameters

S. Kathi ,  avan ,  J. Kanaka 외 1명

SmartCR

2014 .02

Dynamics of ARF regulation that control senescence and cancer

고아람 ,  한수연 ,  송재환

BMB Reports

2016 .01

ArF Single Layer Resist Composed of Alicyclic Main Chain Containing Maleic Anhydride

Jae Chang Jung ,  Cheol Kyu Bok ,  백기호

ICVC : International Conference on VLSI and CAD

1997 .01

Multi-resolution diffusion 기법을 이용한 영상개선 ( Image enhancement by multi-resolution diffusion method )

권세안 ,  손광훈

대한전자공학회 학술대회

1998 .01

Silicon Containing Positive Resist for ArF Excimer Laser Lithography

이해원 ,  김영대 ,  강영종 외 3명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1997 .10

Novel binder polymers for high resolution dry film resists

Kyoungok JUNG ,  Jin-Baek KIM

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2016 .10

초고해상도 기반 비대면 저해상도 영상의 얼굴 인식 시스템

배현빈 ,  권오설

멀티미디어학회논문지

2020 .03

Modeling in multi-resolution and its applications

Sungchan Kim ,  Kunwoo Lee ,  Taesik Hong 외 1명

한국CDE학회 국제학술발표 논문집

2005 .08

A Novel Algorithm for Face Recognition From Very Low Resolution Images

C. Senthilsingh ,  M. Manikandan

Journal of Electrical Engineering & Technology

2015 .03

Etching characteristics of ArF and EUV resists in dual-frequency superimposed capacitively coupled CF₄/O₂/Ar and CF₄/CHF₃/O₂/Ar plasmas

권봉수 ,  김진성 ,  박영록 외 7명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2009 .05

Chemically Amplified Positive Resists for ArF Excimer Laser Lithography

안성남 ,  강영종 ,  이해원 외 3명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1996 .10

Chemically Amplified Positive Resists for ArF Excimer Laser Lithography

강영종 ,  이해원 ,  김웅렬 외 2명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1997 .04

강우 사상의 시·공간적 규모 특성을 반영한 호우중심형 ARF 산정

김은지 ,  강부식

한국수자원학회 학술발표회

2018 .01

하이브리드 업샘플링을 이용한 베이시안 초해상도 영상처리

朴鍾鉉 ,  姜文基

전기학회논문지

2008 .02

Visual Bit Resolution Enhancement Algorithm for Digital TVs

Seungsin Lee ,  Du-Sik Pa ,  k 외 1명

대한전자공학회 기타 간행물

2006 .02

Study of Bottom Antireflective Coating Process Using a High-Transparency Resist for ArF Excimer Laser Lithography

Shinji Kishimu ,  a ,  Makoto Takahashi 외 3명

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01