Silicon Containing Positive Resist for ArF Excimer Laser Lithography

이해원 ,  김영대 ,  강영종 외 3명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1997 .10

Silicon Containing Photoresists for ArF Excimer Laser Lithography

Young Dae Kim ,  Sang Jin Pa ,  k 외 4명

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

Chemically Amplified Positive Resists for ArF Excimer Laser Lithography

강영종 ,  이해원 ,  김웅렬 외 2명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1997 .04

Chemically Amplified Positive Resists for ArF Excimer Laser Lithography

안성남 ,  강영종 ,  이해원 외 3명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1996 .10

Chemically Amplified Photoresists for ArF Excimer Laser Lithography

김영대 ,  강영종 ,  이해원

대한전자공학회 학술대회

1998 .01

The Optical System for ArF Excimer Laser Exposure Tool

정해빈 ,  이각현 ,  김도훈 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1997 .01

Excimer Laser Lithography Equipment

이종현

대한전자공학회 워크샵

1989 .01

ArF Excimer Laser용 광학계의 Tolerancing

이각현 ,  정해빈 ,  유현준

광학세계

1994 .01

Study of Bottom Antireflective Coating Process Using a High-Transparency Resist for ArF Excimer Laser Lithography

Shinji Kishimu ,  a ,  Makoto Takahashi 외 3명

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

Photochemical Deposition of Silicon and SiC Thin Film Using ArF Excimer Laser

Koichi Toyoda ,  Toshihi ,  o Taguchi

TENCON 87 - Computers and Communications Technology Toward 2000

1997 .01

Fabrication of White Light Source in Micron Size on Silicone Rubber by ArF Excimer Laser

Masayuki Okoshi ,  Minako Iyono ,  Na 외 2명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2008 .06

ArF Excimer Laser를 사용한 가스센서 ZnO와 $WO_3$ 박막의 제작 및 특성 측정

강준희 ,  오철민

한국재료학회 학술발표대회

2011 .01

시뮬레이션을 이용한 ArF 엑시머 레이저 노광장치용 광학계의 성능 분석 ( Simulated Performance of ArF Excimer Lasser Lithography Optics )

정해빈 ,  이각현 ,  김도훈 외 3명

대한전자공학회 워크샵

1997 .01

A Silicon Containing Resist for KrF Excimer Laser Lithography

박상진 ,  이해원

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1998 .04

Excimer laser를 이용한 글라스의 기계적 특성

이강택 ,  문필용 ,  진현주 외 2명

한국소성가공학회 학술대회 논문집

2005 .10

Alicyclic group을 함유한 ArF excimer laser용 감광성 수지의 합성

임광희 ,  김춘기 ,  김동국 외 2명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1999 .10

Synthesis of Copolymers Containing 3-Hydroxycyclohexyl Methacrylate and Their Application as ArF Excimer Laser Resists

김진백 ,  김재영

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1998 .04

Synthesis of a New Photoresists Containing Silicon for ArF Eximer Laser Lithography

이해원 ,  김성수 ,  최영만 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2001 .10

산업용 Excimer 레이저의 응용현황 ( Applications of Industrial Excimer Lasers )

홍권의

대한전자공학회 학술대회

1987 .01

Excimer Laser Processing for the Electronics Industry

B ,  uce Cap ,  on

Advanced and Future Microelectronics Workshop - Advanced Packaging Technology -

1991 .01