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학술대회자료
저자정보
김성준 (한양대학교 나노 SOI 공정 연구실) 강현구 (한양대학교 나노 SOI 공정 연구실) 김민석 (한양대학교 나노 SOI 공정 연구실) 박재근 (한양대학교 나노 SOI 공정 연구실)
저널정보
한국반도체디스플레이기술학회 한국반도체및디스플레이장비학회 학술대회 한국반도체및디스플레이장비학회 2003년도 추계학술대회 발표 논문집
발행연도
2003.1
수록면
122 - 125 (4page)

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이 논문의 연구 히스토리 (4)

2004

STI CMP용 가공종점 검출기술에서 나노 세리아 슬러리 특성이 미치는 영향
김성준 ,  강현구 ,  김민석 외 2명 반도체및디스플레이장비학회지 2004.01 학술저널

2003

STI CMP용 나노 세리아 슬러리의 Non-Prestonian 거동에서 연마 입자의 크기와 계면활성제의 농도가 미치는 영향
김성준 ,  강현구 ,  백운규 외 1명 한국재료학회 학술발표대회 2003.01 학술대회자료
계면활성제의 농도와 연마제의 크기가 STI 화학적 기계적 연마에 대한 나노 세리아 슬러리의 선택비에 미치는 영향
김성준 ,  강현구 ,  박재근 외 1명 한국재료학회 학술발표대회 2003.01 학술대회자료
나노 세리아 슬러리에 첨가된 연마입자와 첨가제의 농도가 CMP 연마판 온도에 미치는 영향
김성준 ,  강현구 ,  김민석 외 1명 한국반도체및디스플레이장비학회 학술대회 2003.01 학술대회자료

초록· 키워드

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We investigated the effect of the abrasive and additive concentrations in Nano ceria slurry on the pad surface temperature under varying pressure through chemical mechanical polishing (CMP) test using blanket wafers. The pad surface temperature after CMP increased with the abrasive concentration and decreased with increase of the additive concentration in slurries for the constant down pressure. A possible mechanism is that the additive adsorbed on the film surface during polishing decreases the friction coefficient, hence the pad surface temperature gets lower with increase of the additive concentration. This difference of temperature was more remarkable for the higher concentration of abrasives. In addition, in-situ measurement of spindle motor was carried out during oxide and nitride polishing. The averaged motor current for oxide film was higher than that for nitride film, which means the higher friction coefficient.

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