투명전자소자를 위한 HfO₂ 계 투명 MIM 커패시터 특성연구

조영제; 이지면; 곽준섭

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자료유형: 학술저널

저자정보: 조영제 이지면 곽준섭

저널정보: 한국진공학회(ASCT) Applied Science and Convergence Technology 한국진공학회지 제18권 제1호

발행연도: 2009.1

수록면: 30 - 36 (7page)

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투명 전자소자의 고유전 HfO₂ 절연막을 개발하기 위하여, ITO/HfO₂/ITO 금속-절연체-금속 (Metal-Insulator-Metal, MIM) 커패시터 구조를 형성한 후 HfO₂ 박막의 두께에 따른 전기적, 광학적, 구조적 특성의 변화를 연구하였다. HfO2 박막의 두께가 50 ㎚에서 300 ㎚로 증가함에 따라 유전상수는 20에서 10이하로 감소하였으나, HfO₂ 두께가 증가함에 따라 누설전류는 감소하여 200 ㎚ 이상의 두께에서는 2.7×10<SUP>-12</SUP> A/㎠ 이하의 낮은 누설전류 특성을 나타내었다. ITO/HfO₂/ITO MIM 커패시터의 HfO₂ 박막의 두께가 50 ㎚에서 300 ㎚로 증가함에 따라 투과율은 감소하였으나 300 ㎚ 두께에서도 가시광선 영역에서 80 %이상의 투과율을 나타내어 우수한 투과도 특성을 나타내었다.

#금속-절연체-금속 커패시터 #하프늄옥사이드 #투명전도산화물 #투명 커패시터 #MIM capacitor #HfO₂ #TCO #Transparent capacitor

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1. [학술지(정기간행물)] - J. F. Wager / 2003 / / science 300 : 1269 ~

2. [학술지(정기간행물)] - K. Nomura / 2004 / / Nature 432 : 488 ~

3. [학술지(정기간행물)] - H. Yabuta / 2006 / / Appl. Phys. Lett 89

4. [학술지(정기간행물)] - H. S. Momose / 1996 / / IEEE Trans.Electron Devices 43 : 1233 ~

5. [학술지(정기간행물)] - W. K. Henson / 2000 / / IEEE Trans.Electorn Devices 47 : 1393 ~

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