용액 공정을 통한 HfO2/ZrO2 구조 차이에 따른 Dielectric layer의 특성 변화 분석

김현기; 최병덕

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자료유형: 학술대회자료

저자정보: 김현기 (성균관대학교) 최병덕 (성균관대학교)

저널정보: 한국진공학회 한국진공학회 학술발표회초록집 제50회 한국진공학회 동계정기학술대회 초록집

발행연도: 2016.2

수록면: 312 - 312 (1page)

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#ZrO2 #HfO2 #Capacitance #Dielectric constant

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김현기

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주요연구분야 자연과학 > 물리학 공학 > 전기전자공학 > 전자공학

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Byoung-deog Choi

소속기관 성균관대학교

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