Transparent Thin Film Transistor using Al₂O₃/HfO₂ as Gate Insulator Layer

J. K. Park; Yonghan Roh

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자료유형: 학술대회자료

저자정보: J. K. Park (성균관대학교) Yonghan Roh (성균관대학교)

저널정보: 한국진공학회 한국진공학회 학술발표회초록집 한국진공학회 제36회 동계학술대회 초록집

발행연도: 2009.2

수록면: 269 - 269 (1page)

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