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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술대회자료
- 저자정보
- 발행연도
- 2018.8
- 수록면
- 167 - 167 (1page)
이용수
이 논문의 연구 히스토리 (5)
2018
Influence of O₂ Annealing on Electrical Characteristics of Atomic Layer Deposited HfO₂ thin Films on Si Substrate
Soonkon Kim
,
Byoungdeog Choi
한국진공학회 학술발표회초록집
2018.08
학술대회자료
Effect of Post Deposition Annealing in N₂ Ambient on Electrical Properties of Atomic Layer Deposited HfO₂ Films on Si
Soonkon Kim
,
Byoungdeog Choi
한국진공학회 학술발표회초록집
2018.08
학술대회자료
Influence of O₂ Anneal on the Electrical Properties of HfO₂ thin Film on Si Substrate
Soonkon Kim
,
Byoungdeog Choi
한국진공학회 학술발표회초록집
2018.02
학술대회자료
Effects of N₂ Anneal on Electrical Properties of HfO₂ Film on Si Substrate
Soonkon Kim
,
Byoungdeog Choi
한국진공학회 학술발표회초록집
2018.02
학술대회자료
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2018 .02
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2018 .08
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2019 .08
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2018 .02
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2020 .02
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2020 .02
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한국진공학회 학술발표회초록집
2019 .08
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H₂O₂ effects of HfO₂ dielectric layers
한국진공학회 학술발표회초록집
2017 .02
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Effects of Annealing Temperature on Capacitance-Voltage Characteristics of Al/HfO2/Ge Capacitors
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .08
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한국진공학회 학술발표회초록집
2019 .08
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2020 .02
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2021 .07
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Electrical Characteristics of Multi-Layered Al₂O₃/HfO₂/Al₂O₃ Gate Dielectric Films
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .08
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한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .08
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Active ion doping technique on HfO₂-based atomic switch by inserting Cu layers
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .08
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Annealing Temperature Effect on Al/ HfO₂/ InP capacitors
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2020 .02
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Transfer Characteristics Comparison of HfO₂ Al₂O₃ Deposited InGaZnO Thin Film Transistors
한국진공학회 학술발표회초록집
2021 .02
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The Effects of Thermal Decomposition of Tetrakis-ethylmethylaminohafnium (TEMAHf) Precursors on HfO₂ Film Growth using Atomic Layer Deposition
Applied Science and Convergence Technology
2016 .05
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