지원사업
학술연구/단체지원/교육 등 연구자 활동을 지속하도록 DBpia가 지원하고 있어요.
커뮤니티
연구자들이 자신의 연구와 전문성을 널리 알리고, 새로운 협력의 기회를 만들 수 있는 네트워킹 공간이에요.
논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술저널
- 저자정보
- 저널정보
- 한국진공학회(ASCT) Journal of Korean Vacuum Science & Technology Journal of Korean Vacuum Science & Technology Vol.2 No.2
- 발행연도
- 1998.10
- 수록면
- 92 - 96 (5page)
이용수
초록· 키워드
오류제보하기
Ferroelectric Bi-layered oxides SrBi₂Ta₂O_9 (SBT) thin films have been deposited on Pt/Ti/ SiO₂/Si substrates using multi-target sputtering. Structure, composition, and electrical properties have been investigated on films. The SBT films were deposited with the various bismuth sputtering powers. The SBT films deposited with the bismuth sputtering power of 20 W have the most dense microstructure and the remanent polarization (P_t) of 9.2 μC/㎠ and the coercive field (E_c) of 43.8 kV/㎝ at an applied voltage of 5 V. The SBT films deposited with the bismuth sputtering power of 20 W showed a fatigue-free characteristics up to 1.0×10^(10) cycles under 5 V bipolar pulse and a leakage current density of 2.0×10^(-8) A/㎠ at 200 kV/㎝.
목차
Abstract
Ⅰ. Introduction
Ⅱ. Experimental Details
Ⅲ. Results and Discussion
Ⅳ. Conclusions
References
참고문헌 (0)
참고문헌 신청함께 읽어보면 좋을 논문
논문 유사도에 따라 DBpia 가 추천하는 논문입니다. 함께 보면 좋을 연관 논문을 확인해보세요!
-
Characterization of SrBi₂Ta₂O9 thin films prepared by sputtering method by using AFM and XPS
한국진공학회 학술발표회초록집
1996 .02
-
Preparation of multi-component thin film by facing target sputtering system
한국진공학회 학술발표회초록집
2010 .08
-
RF 마그네트론 스퍼터링법에 의한 MFM 구조의 SrBi₂Ta₂O9 박막 특성에 관한 연구
Applied Science and Convergence Technology
2000 .05
-
Characterization of SrBi₂Ta₂O9 thin films prepared by Sol - Gel process using AFM and XPS
한국진공학회 학술발표회초록집
1996 .06
-
RF-스퍼터링 기법으로 제작한 Fe3O4 박막에 Ta 기저층이 미치는 효과
한국자기학회지
2015 .04
-
Bi 함량에 따른 SrBi2xTa₂O9 박막의 전기적 특성
Applied Science and Convergence Technology
1999 .08
-
r.f. 마그네트론 스퍼터링법에 의해 제조된 SrBi₂Ta₂O9 박막의 후열처리에 의한 배향 성장 및 강유전 특성
한국진공학회 학술발표회초록집
1998 .07
-
Dielectric Characteristics of Al₂O₃ Thin Films Deposited by Reactive Sputtering
한국진공학회 학술발표회초록집
2000 .02
-
RF Magnetron Sputtering법으로 제작된 (Pb0.92La0.08)(Zr0.65Ti0.35)O₃ 박막의 Ar/O₂ 분압비에 따른 강유전 특성연구
Applied Science and Convergence Technology
2009 .03
-
A study of sputter XPS depth profiling of Ta₂O5 / Si without preferential sputtering problems.
한국진공학회 학술발표회초록집
1992 .07
-
Preparation of PZT ferroelectric thin films by sol - gel processing
한국진공학회 학술발표회초록집
2001 .02
-
비 휘발성 기억소자 용 $SrBi_2Ta_2O_9$ 박막의 강유전체 특성
한국결정학회지
2000 .01
-
Effects of Ta addition in Co-sputtering Process for Ta-doped Indium Tin Oxide Thin Film Transistors
한국진공학회 학술발표회초록집
2012 .02
-
Ferromagnetism of thin films deposited from paramagnetic stainless steel targets by Facing Targets Sputtering
한국자기학회 학술연구발표회 논문개요집
1991 .05
-
Ion Beam Induced Processes in Sputtering of Ta₂O5 / Si Interfaces.
한국진공학회 학술발표회초록집
1993 .02
-
Epitaxial growth of Tin Oxide thin films deposited by powder sputtering method
한국진공학회 학술발표회초록집
2015 .08
-
Sputtering 공정 중 발생 된 in-film defect 분석 방법
한국진공학회 학술발표회초록집
2017 .02
-
Structure-Zone Modeling of Sputter-Deposited Thin Films : A Brief Review
Applied Science and Convergence Technology
2019 .11
-
NDRO FRAM 소자를 위한 Pt / SrBi₂Ta₂O9 / ZrO₂ / Si 구조의 특성에 관한 연구
Applied Science and Convergence Technology
2000 .12
-
Ti thin film deposited by grid - assisted magnetron sputtering
한국진공학회 학술발표회초록집
2002 .06
이 논문의 저자 정보
최근 본 자료
댓글(0)
0
UCI(KEPA) : I410-ECN-0101-2019-420-001260074