RF Magnetron Sputtering법으로 제작된 (Pb0.92La0.08)(Zr0.65Ti0.35)O₃ 박막의 Ar/O₂ 분압비에 따른 강유전 특성연구

김상지; 윤지언; 황동현; 이인석; 안정훈; 손영국

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자료유형: 학술저널

저자정보: 김상지 윤지언 황동현 이인석 안정훈 손영국

저널정보: 한국진공학회(ASCT) Applied Science and Convergence Technology 한국진공학회지 제18권 제2호

발행연도: 2009.3

수록면: 141 - 146 (6page)

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rf magnetron sputtering 법을 이용하여 Pt/Ti/SiO₂/Si 기판 위에 buffer layer인 TiO₂ 층을 증착한 후 PLZT 강유전체 박막을 증착하였다. PLZT 박막 증착 시 가스 분압비가 박막의 특성에 미치는 영향을 알아보기 위해 Ar/O₂ 분압비를 각각 27/1.5 sccm, 23/5.5 sccm, 21/7.5 sccm, 19/9.5 sccm로 변화시키면서 박막을 증착하였다. 이들 박막의 구조적인 특성을 분석하기 위해 X-선 회절법을 사용하였으며 FE-SEM을 이용하여 입자상을 관찰하였다. 또한 박막의 유전특성을 분석하기 위해 Precision LC를 이용하여 이력곡선, 잔류분극, 누설전류를 측정하였다. 산소 분압이 높아질수록 박막의 결정성 및 치밀성이 저하되었으며, (110) 방향에서 (111) 방향으로 우선배향성이 변화하는 것을 확인하였다. 산소 분압비의 변화는 박막 표면 및 강유전 특성에 영향을 미치는 것으로 판단된다.

#라디오파 마그네트론 스퍼터링 #강유전체 박막 #PLZT #RF magnetron sputtering #Ferroelectrics thin film

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