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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술저널
- 저자정보
- 발행연도
- 2007.1
- 수록면
- 520 - 526 (7page)
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In order to acquire fundamental informations to fabricate high precision thin film resistors, NiCr/NiCrSi alloy films were prepared using Ni and Cr targets. Effect of composition on the electrical properties of the NiCr/NiCrSi alloy film were then investigated. Considering the effect of Si doping on the electrical and material characteristics, the lower TCR (temperature coefficient of resistance) values could be achieved for samples with Ni/Cr ratio of 0.8～1.5 (in a range of relative higher specific resistivity and Cr composition of 40 wt%～55 wt%) and with Si doping. Consequently, the sample prepared using a DC power showed a good TCR of -25 ppm/℃, which implies that increase of specific resistivity and decrease of TCR would be achieved more efficiently not for Ni-Cr binary material but for Si doped Ni-Cr ternary material, and not using RF power but using DC power in the sputtering process.
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D. M. Buczek / 1978 / Thin-film NiCr resistor / J. Vac. Sci. Technol. 15 (2) : 370 ~
E. Schippel / 1980 / Modification test of vacuum deposition Ni/Cr films with Mn and Si for thin film resistors / Kristall und Technik 15 (8) : 917 ~
J. A. Thornton / 1986 / The microstrucure of sputter-deposited coatings / J. Vac. Sci. Technol. A4 (6) : 3095 ~
J. H. Mooij / 1972 / Structureal and properties of sputtered CrNi films / The journal of vacuum science and technology 9 : 446 ~
K. Matsuda / 1980 / Super precision metal film resistors / National Tech. Rep. 26 (2) : 283 ~
E. Schippel / 1980 / Modification test of vacuum deposition Ni/Cr films with Mn and Si for thin film resistors / Kristall und Technik 15 (8) : 917 ~
J. A. Thornton / 1986 / The microstrucure of sputter-deposited coatings / J. Vac. Sci. Technol. A4 (6) : 3095 ~
J. H. Mooij / 1972 / Structureal and properties of sputtered CrNi films / The journal of vacuum science and technology 9 : 446 ~
K. Matsuda / 1980 / Super precision metal film resistors / National Tech. Rep. 26 (2) : 283 ~
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