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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
Boong-Joo Lee (Namseoul University) Paik-Kyun Shin (Inha University)
저널정보
대한전기학회 Journal of Electrical Engineering & Technology Journal of Electrical Engineering & Technology Vol.2 No.4
발행연도
2007.12
수록면
525 - 531 (7page)

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Ni(75 wt.%)-Cr(20 wt.%)-Al(3 wt.%)-Mn(4 wt.%)-Si(1 wt.%) alloy thin films were prepared using the DC magnetron sputtering process by varying the sputtering conditions such as power, pressure, substrate temperature, and post-deposition annealing temperature in order to fabricate a precision thin film resistor. For all the thin film resistors, sheet resistance, temperature coefficient of resistance (TCR), and crystallinity were analyzed and the effects of sputtering conditions on their properties were also investigated. The oxygen content and TCR of Ni-Cr-Al-Mn-Si resistors were decreased by increasing the sputtering pressure. Their sheet resistance, TCR, and crystallinity were enhanced by elevating the substrate temperature. In addition, the annealing of the resistor thin films in air at a temperature higher than 300℃ lead to a remarkable rise in their sheet resistance and TCR. This may be attributed to the improved formation of NiO layer on the surface of the resistor thin film at an elevated temperature.
#DC magnetron sputtering #Ni-Cr alloy thin films #TCR #Thin film resistor

목차

Abstract
1. Introduction
2. Experimental
3. Results and Discussions
4. Summary and Conclusion
Acknowledgements
References

참고문헌 (8)

참고문헌 신청
, 1979 , Composition and tempera-ture coefficient of resistance of Ni-Cr thin films : 33 ~ 41 google schola , 1986 , Al-doped Ni-Cr for temperature coef-ficient of resistance control in hybrid thin-film resis-tors : 3142 ~ 3145 google schola , 1972 , Structural and electrical properties of sputtered CrNi films : 446 ~ 449 google schola , 1986 , Electrical properties and structural defects of Ni-Cr thin films : 15 ~ 24 google schola , 1982 , Crystallization of amor-phous sputtered 55%Cr-45%Ni thin films : 315 ~ 32 google schola

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