메뉴 건너뛰기
.. 내서재 .. 알림
소속 기관/학교 인증
인증하면 논문, 학술자료 등을  무료로 열람할 수 있어요.
한국대학교, 누리자동차, 시립도서관 등 나의 기관을 확인해보세요
(국내 대학 90% 이상 구독 중)
로그인 회원가입 고객센터 ENG
주제분류

추천
검색

논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
저널정보
한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 전기전자재료학회논문지 제16권 제7호
발행연도
2003.1
수록면
0 - 0 (1page)

이용수

표지
📌
연구주제
📖
연구배경
🔬
연구방법
🏆
연구결과
AI에게 요청하기
추천
검색

초록· 키워드

오류제보하기
Ferroelectric Bi4-xNdxTi3O12(BNdT) thin films with the composition(x=0.75) were prepared on Pt/Ti/SiO2/Si(100) substrate by metal-organic deposition. The films were annealed by various temperatures from 550 to 650℃ and then the electrical and structural characteristics of BNdT films were investigated for the application of FRAM. Electrical properties such as dielectirc constant, 2Pr and capacitance were quite dependent on the thermal heat treatment. The measured 2Pr value on the BNdT capacitor annealed at 650℃ was 56μC/㎠ at an applied voltage of 5V. In fatigue characteristics value remained constant up to 8×1010 read/write switching cycles at a frequency of 1Mhz regardless of annealing temperatures.

목차

등록된 정보가 없습니다.

참고문헌 (0)

참고문헌 신청

함께 읽어보면 좋을 논문

논문 유사도에 따라 DBpia 가 추천하는 논문입니다. 함께 보면 좋을 연관 논문을 확인해보세요!

이 논문의 저자 정보

최근 본 자료

전체보기

댓글(0)

0