스컬법에 의한 루틸 단결정 성장에 관한 연구

석정원; 최종건

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자료유형: 학술저널

저자정보: 석정원 최종건

저널정보: 한국결정성장학회 한국결정성장학회지 한국결정성장학회지 제14권 제6호

발행연도: 2004.1

수록면: 262 - 266 (5page)

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초기 RF 유도가열을 위해 Ti 금속링을 사용하여 스컬법에 의해 루틸 단결정을 성장시켰다. 성장시킨 단결정은 Ø5.5×1.0 mm의 wafer로 가공하였으며, 1300oC에서 15시간까지 대기중에서 열처리 하여 l = 200~25000 nm의 범위에서 투 광도를 비교하였다.

#Rutile single crystal #Skull melting method #RF induction heating #Ti metal ring

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/ 1978 / ？Synthesis and crystal growth of refractory materials by R.F. melting in a cold container Current Topics in Materials Science 1 : 432 ~

/ 1984 / ？Introduction to phase equilibria in ceramics

/ 1991 / ？Difficulties encountered during the czochralski growth of TiO2 single crystals J. of Crystal Growth 112 : 835 ~

/ 1992 / ？Synthesis of TiO2 powders and growth of rutile by verneuil method J. of the Korean Crystal Growth and Crystal Technology 2 : 60 ~

/ 1993 / ？Synthesis of TiO2 powders and growth of rutile single crystal by verneuil method : 1 ~

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석정원

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논문수 25 이용수 261

최종건

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