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논문 기본 정보

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저널정보
한국결정성장학회 한국결정성장학회지 한국결정성장학회지 제15권 제5호
발행연도
2005.1
수록면
175 - 181 (7page)

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스컬용융법에 의해 루틸 단결정들을 성장시켰으며, 서로 다른 융액의 유지시간에 따른 ingot의 특성을 비교하였다. 스컬용융법은 교류전자기장(RF)에 의해 전기가 흐르는 융액의 직접유도가열에 근거 하며, 가열은 RF 에너지의 흡수로 실행된다. TiO2는 상온에서는 부도체이지만 온도가 올라갈수록 전기 전도성이 증가한다. 따라서, 초기 RF 유도가열을 위해 티타늄 금속 링(외경 : 6 cm, 내경 : 4 cm, 두께 : 0.2 cm)을 TiO2 분말(아나타제상, CERAC, 3 N) 내부에 묻었다. 스컬용융법에 의한 산화물 용융에서 매우 중요한 것은 융점에서의 전기 저항 값, RF generator의 주파수 그리고 냉각도가니 크기이다. 본 연구에서는, TiO2의 융점에서의 전기저항(10-2~10-1 W·m)은 알루미나(10-1 W·m)와 지르코니아(10-3 W·m)의 전기저항 데이터를 바탕으로 추정하였다. 냉각도가니의 내부직경은 11 cm, 높이는 14 cm였으며, 이것은 침투깊이(0.36~1.13 cm)와 RF generator 주파수를 고려하여 결정하였다.
#Skul melting #Ti metal ring #Rutile single crystal #Penetration depth #Cold crucible

목차

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참고문헌 (9)

참고문헌 신청
/ 1991 / Difficulties encountered during the Czochralski growth of TiO2 single crystals? 112 : 835 ~ google schola / 1997 / ？Unstable forming of rutile crystal grown by EFG method? : 159 ~ google schola / 1999 / ?lbauer, C. Stenzel and O. Schulz, ？Possible use of Skull melting under microgravity? c. stenzel and o. schulz : 190 ~ google schola / 1999 / ？Growth of rutile single crystals by the pulling-down method : 450 ~ google schola / 1999 / ？Power consumption of skull melting : 324 ~ google schola

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