A study on the phenomenon of non uniformity at isolate pattern using ion beam etching

Jongsoon PARK ,  Jongkyu KIM ,  Sangkuk KIM 외 7명

한국진공학회 학술발표회초록집

2016 .08

Characteristics of SiO₂ Etching by Capacitively Coupled Plasma with Different Fluorocarbon Liquids (C₇F₁₄, C₇F₈) and Fluorocarbon Gas (C₄F₈)

Seung-Wan Yoo ,  Chulhee Cho ,  Kyungtae Kim 외 2명

Applied Science and Convergence Technology

2021 .07

Fabrication of Switching Device using GeTe₆ Amorphous Film with Enhanced Electrical Performance

Yoongu Lee ,  Jeongun Choe ,  Sang-Heon Pa 외 3명

한국진공학회 학술발표회초록집

2019 .08

Sensitivity Enhancement of Fault Detection in Plasma Etching Processes using Optical Emission Spectroscopy with Multivariate Analysis

Hakseung Lee ,  Haegyu Jang ,  Honyoung Lee 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2015 .02

Atomic layer etching of SiO₂ with low-global warming potential C₄H₃F₇O isomers

Yongjae Kim ,  Yebin Lee ,  Seonghyeon Lee 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2021 .02

Cryogenic Etching in Advanced Electronics Manufacturing: Applications and Challenges

Kyongnam Kim

Applied Science and Convergence Technology

2024 .09

원자층 식각기술

염근영

한국진공학회 학술발표회초록집

2015 .02

On induced $L$?fuzzy uniformities

K. A. DiB ,  G. A. Kamel ,  H. M. Rezk

ANNALS OF FUZZY MATHEMATICS AND INFORMATICS

2017 .08

C₃F₆O 가스를 이용한 SiO₂에 대한 식각 특성 분석

김선웅 ,  양경채 ,  이호석 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2017 .08

식각된 LED의 식각 깊이와 식각 각도가 광 추출 효율에 미치는 영향

권기영 ,  기장근

새물리

2020 .10

Characterization of ultra sharp W tips for field emission electron beam by using etching solution NaOH and KOH

Bishwa Chand ,  a Adhika ,  i 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2018 .08

Applications of fluid based plasma simulation : dry etch

주정훈

한국진공학회 학술발표회초록집

2018 .02

Magnetic Properties and Hysteresis Loss Improvement of Fe Alloy Powder by NH₄OH Etching

Sunwoo Lee ,  Sungjoon Choi ,  Jae-Hyoung You 외 1명

한국자기학회 학술연구발표회 논문개요집

2017 .05

Dopant에 따른 amorphous carbon layer의 etch rate 변화 분석연구

정원준 ,  김동빈 ,  박상현 외 7명

한국진공학회 학술발표회초록집

2015 .08

Low-Global Warming Potential Isomer Plasmas for Silicon Oxide Etching in Dual Frequency Superimposed Capacitively Coupled Plasmas

Hojin Kang ,  Yongjae Kim ,  Junhyun Kim 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2021 .02

다양한 etch gas를 이용한 자성 박막의 식각특성 분석

이호석 ,  양경채 ,  박성우 외 3명

한국진공학회 학술발표회초록집

2017 .02

The comparison of end-point detection between optical emission spectroscopy and residual gas analysis in silicon etching in NF3/Ar Plasma

Hee Tae Kwon ,  Woo Jae Kim ,  Gi Won Shin 외 3명

한국진공학회 학술발표회초록집

2018 .08

Ultrathin BP layer fabrication by photochemical etching

김정원

한국진공학회 학술발표회초록집

2017 .02

Sub-10 nm 수직 배향 DSA etch profile 향상에 대한 연구

오지수 ,  김교운 ,  김희주 외 3명

한국진공학회 학술발표회초록집

2020 .02

A study on the ion beam etching characteristics in the high aspect ratio contact

Ilhyeong LEE ,  Jongkyu KIM ,  Jongsoon PARK 외 6명

한국진공학회 학술발표회초록집

2016 .08