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C₃F6O 가스를 이용한 SiO₂에 대한 식각 특성 분석
한국진공학회 학술발표회초록집
2017 .08
Applications of fluid based plasma simulation : dry etch
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .02
Development of Low Damage Dry Etch to Pattern Sub-10 nm with ACL and High-χ BCP mask
한국진공학회 학술발표회초록집
2019 .08
Ar/CxF2xO(X=3,6) 혼합가스를 이용한 친환경 SiO₂ 식각 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2019 .08
Characteristics of SiO₂ Etching in a C4F8/Ar/O₂ pulse modulation capacitively coupled plasma
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .02
MoS2 layer etching using CF4 plasma and H2S plasma treatment
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .02
Cryogenic Etching in Advanced Electronics Manufacturing: Applications and Challenges
Applied Science and Convergence Technology
2024 .09
PS-b-PMMA block copolymer etching using neutral beam
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .08
A perspective on patents on dry etching apparatus
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .08
The optimize of chamber recovering conditions in plasma etching processes
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .08
원자층 식각기술
한국진공학회 학술발표회초록집
2015 .02
Sensitivity Enhancement of SiO₂ Plasma Etching Endpoint Detection with K-means Cluster Analysis Technique
한국진공학회 학술발표회초록집
2015 .02
다양한 etch gas를 이용한 자성 박막의 식각특성 분석
한국진공학회 학술발표회초록집
2017 .02
Ar/C₄F6/O₂Pulsedtriplefrequency의 식각 메커니즘 분석
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .02
Plasma Etching Process based on Real-time Monitoring of Radical Density and Substrate Temperature
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .02
C₃F6O/O₂ 혼합 가스의 SiO₂, Si₃N₄에 대한 식각 특성분석
한국진공학회 학술발표회초록집
2017 .02
Effects of pulsed inductively coupled Cl₂/Ar plasma for the etching of Si nanostructure
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .02
PI(Plasma Information) 인자 모니터링을 통한 dry etch process chamber 상태 정량화 및 공정제어 알고리즘 기반 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .02
3D feature profile simulation for nanoscale semiconductor plasma processing
한국진공학회 학술발표회초록집
2015 .08
식각된 LED의 식각 깊이와 식각 각도가 광 추출 효율에 미치는 영향
새물리
2020 .10
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