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Remote Plasma MOCVD 법을 사용하여 형성된 Titanium Nitride 박막의 Step Coverage 변화에 관한 연구
대한전자공학회 학술대회
1995 .01
증착 온도에 따른 Tantalum Oxide 막의 성질 변화 연구
한국재료학회 학술발표대회
1992 .01
산소결핍 탄탈륨 산화물을 활용한 탄탈륨 산질화물 및 질화물 합성
한국분말야금학회지
2008 .01
적색 안료인 탄탈륨 질화물(Ta3N5)의 특성에 도핑 물질 및 최종질화물의 산소/질소 함량이 미치는 영향
한국분말야금학회지
2009 .01
Film Properties of Amorphous TaN and Ta - ( Si ) - N Deposited from Remote Plasma MOCVD
대한전자공학회 학술대회
1997 .01
MOCVD 법에 의해 증착된 TiO2 박막의 결정구조 및 광학적 특성 ( Structural and Optical Properties of TiO2 Films Deposited by MOCVD )
전자공학회논문지-D
1997 .06
Plasma Enhancd MOCVD법에 의해 Pt/Ti/$SiO_2$/Si 위에 제조된 $Ba_{x}Sr_{1-x}TiO_3$박막의 전기적 특성에 관한 연구
한국재료학회 학술발표대회
1997 .01
DC-Pulse Plasma와 Thermal MOCVD 방법으로 증착된 TiN 박막의 특성에 관한 연구
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2000 .11
MOCVD 법에 의한 Al 박막의 증착 속도 및 증착 두께 분포
한국재료학회 학술발표대회
1994 .01
MOCVD법에 의한 PZT 박막의 증착 및 전기적 특성에 관한 연구
대한전자공학회 학술대회
1995 .01
MOCVD Growth of Group-III Nitrides for High Quality Photonic Devices
OPTOELECTRONICS & COMMUNICATIONS CONFERENCE
1997 .01
The Anode Oxidation of Tantalum Thin Film
INTERNATIONAL CONFERENCE ON FUTURE INFORMATION & COMMUNICATION ENGINEERING
2010 .06
Annealing and Post Heat Treatment Effects of Remote Plasma MOCVD Titanium Barrier Metals
대한전자공학회 학술대회
1996 .01
포스트 플라즈마를 이용한 질화의 질화층 형성에 미치는 전처리의 영향에 대한 연구
열처리공학회지
2005 .01
탄탈륨 산화물의 마그네슘 가스환원에 의한 탄탈륨 금속분말 제조
한국분말야금학회지
2018 .01
Plasma-Enhanced MOCVD법에 의해 MOCVD-Pt 위에 제조된 강 유전체 Sr${Bi}_{2}{Ta}_{2}{O}_{9}$ 박막의 특성
한국재료학회 학술발표대회
1997 .01
SYNTHESIS OF CARBON NITRIDE THIN FILMS BY PLASMA PROCESSING
한국표면공학회지
1996 .10
The Corrosion and Electrical Properties of AISI 316L by Plasma Nitriding for PEMFC
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2008 .06
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