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Reliable Al-alloy Via Structure over CVD W for Multilevel Metallization
ICVC : International Conference on VLSI and CAD
1997 .01
Carrier gas$(N_2,\;He)$가 MOCVD TiN 형성에 미치는 영향에 관한 연구
한국재료학회지
1996 .01
MOCVD TiN FOR HIGH TEMPERATURE PROCESS
한국재료학회 학술발표대회
1998 .01
Properties and Diffusion Barrier Performance of MOCVD TiN Films
ICVC : International Conference on VLSI and CAD
1997 .01
후공정 처리에 의한 MOCVD TiN 막질 개선
한국재료학회 학술발표대회
1996 .01
The Effect of Density and Microstructure on the Performance of TiN Barrier Films in Cu Metallization
대한전자공학회 학술대회
1996 .01
Metallization
대한전자공학회 단기강좌
1982 .01
In-situ MOCVD Cu/MOCVD TiN 형성 공정에 관한 연구
한국재료학회 학술발표대회
1998 .01
EFFECT OF VACUUM ANNEALING OF MOCVD TiN ON THE DIFFUSION BARRIER PROPERTY
한국재료학회 학술발표대회
1998 .01
Remote Plasma MOCVD 법을 사용하여 형성된 Titanium Nitride 박막의 Step Coverage 변화에 관한 연구
대한전자공학회 학술대회
1995 .01
TDEAT 단일증착원용 이용한 MOCVD TiN 형성과 막질에따른 Cu 확산방지막 효과
한국표면공학회 학술발표회 초록집
1996 .11
Cu Multilevel Metallization in ULSI Circuits
대한전자공학회 학술대회
1997 .01
Cu 배선공정을 위한 MOCVD-TaN 확산방지막의 개발
한국재료학회 학술발표대회
1996 .01
O₃-MOCVD법에 의한 대면적 Tin Oxide 박막의 전기적, 광학적 특성
한국표면공학회 학술발표회 초록집
1998 .11
Cu 배선 공정에서 Al 중간층을 이용한 CVD-TiN 확산 방지막의 성능 향상
한국재료학회 학술발표대회
1999 .01
Annealing and Post Heat Treatment Effects of Remote Plasma MOCVD Titanium Barrier Metals
대한전자공학회 학술대회
1996 .01
Silicon 석출에 의한 Al-Si Metallization 의 한계점 ( The Limitations of Aluminium-Silicon Metallizations Due to Silicon Nodule Growth )
대한전자공학회 학술대회
1989 .01
Effects of Various Additives on Sintering of Aluminium Nitride
Advanced and Future Microelectronics Workshop - Advanced Packaging Technology -
1991 .01
Character of Copper Films on Molybdenum Substrate by Addition of Titanium in an Advanced Metallization Process
한국재료학회 학술발표대회
2007 .01
Metallization of Si ( 111 ) by Magnesium Layer
대한전자공학회 학술대회
1996 .01
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