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이용수
Abstract
1. 서론
2. 실험방법
3. 실험결과 및 고찰
4. 결론
감사의 글
참고문헌
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Dry Etching of Cu With Cl2 Plasma and PEt3
대한전자공학회 학술대회
1996 .01
플라즈마 식각 공정을 위한 3차원 식각 시뮬레이터 개발 ( Development of Three-Dimensional Etching Simulator for a Plasma Etching Process )
대한전자공학회 학술대회
1997 .11
플라즈마 식각 공정을 위한 3차원 식각 시뮬레이터 개발
대한전자공학회 학술대회
1997 .11
$Cl_2/O_2$ 유도결합형 플라즈마 특성 및 실리콘 식각에의 응용
한국재료학회 학술발표대회
1996 .01
Ar/Cl₂ 중성빔 식각에 의한 GaAs의 식각손상의 감소에 대한 고찰
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2005 .05
He/BCl₃/Cl₂유도결합 플라즈마를 이용한 TiN 박막의 식각 특성
전기전자재료학회논문지
2011 .01
플라즈마 식각방법에 의한 단결정 실리콘의 Two-Step 식각특성 ( Two-Step Etching Characteristics of Single-Si by the Plasma Etching Technique )
전자공학회논문지
1987 .01
플라즈마 식각 방법에 의한 단결성 실리콘의 Two-Step 식각 특성 ( Two-Step Etching Characteristics of Single-si by the Plasma Etching Technique )
대한전자공학회 학술대회
1985 .01
유도 결합형 Cl₂계 플라즈마를 이용한 GaN 식각 특성에 관한 연구
한국표면공학회지
1999 .04
ECR 플라즈마 식각 장치에서 플라즈마 물성이 식각 특성에 미치는 영향
전기학회논문지
1993 .04
고밀도 플라즈마 식각에 의한 CoTb과 CoZrNb 박막의 식각 특성
화학공학
2005 .01
Cl/HBr/O 고밀도 플라즈마에서 비정질 실리콘 게이트 식각공정 특성
화학공학
2009 .01
The Development of Cl-Plasma Etching Procedure for Si and SiO₂
한국표면공학회지
2001 .10
플라즈마 식각 조건이 게이트 산화막의 손상에 미치는 영향
대한전자공학회 학술대회
1994 .07
플라즈마 식각 조건이 게이트 산화막의 손상에 미치는 영향 ( Effects of Plasma Etching Parameter on Gate Oxide Damage during Plasma Etching )
대한전자공학회 학술대회
1994 .07
Dry Etching Characteristics of Zinc Oxide Thin Films in Cl_2-Based Plasma
Transactions on Electrical and Electronic Materials
2011 .01
Cl2/Ar 플라즈마를 이용한 Al2O3 박막의 식각
전기전자재료학회논문지
2009 .01
N₂ 가스를 첨가한 Cl₂/Ar 플라즈마에 의해 식각된 ZnO 박막의 식각 특성
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2009 .10
Tri sulfonated phenyl phosphine oxide를 포함한 양이온교환 연료전지용 멤브레인
한국에너지학회 학술발표회
2014 .11
펄스 플라즈마를 이용한 식각
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2018 .11
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