CF4 플라즈마를 이용한 건식식각에 관한 연구 ( A study on dry etching process using CF4 Plasma )

김성철 ,  황기웅 ,  이종덕 외 3명

대한전자공학회 학술대회

1986 .01

CF₄ 플라즈마를 이용한 건식식각에 관한 연구

황기웅 ,  이종덕 ,  김성철 외 3명

대한전자공학회 학술대회

1986 .12

CF₄ 플라즈마를 이용한 건식식간에 관한 연구

黃琪雄 ,  金成哲 ,  徐龍雲

전기학회논문지

1987 .11

The Use of Inductively Coupled CF4/Ar Plasma to Improve the Etch Rate of ZrO2 Thin Films

김한수 ,  김창일 ,  우종창 외 1명

Transactions on Electrical and Electronic Materials

2013 .01

CF4/O2 gas 플라즈마를 이용한 폴리이미드 박막의 식각

강필승 ,  김창일 ,  김상기

전기전자재료학회논문지

2002 .01

Investigation of Plasma Etching Properties of Polymeric Materials Used for Packaging Application

Chang-ho Ra ,  Li Huamin ,  Yoo won jong 외 3명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2008 .06

Etching Characteristics of Au Thin Films using Inductively Coupled Cf4/Cl2/Ar Plasma

Chang-IlKim ,  Dong-PyoKim

Transactions on Electrical and Electronic Materials

2003 .01

CF4/Cl2/Ar 유도 결합 플라즈마에 의한 gold 박막의 식각특성

장윤성 ,  김동표 ,  김창일 외 1명

전기전자재료학회논문지

2003 .01

MECHANISM OF ETCHING OF SILICON NITRIDE IN CF4-O2 PLASMA

V. P ,  emachand ,  an 외 2명

ICVC : International Conference on VLSI and CAD

1989 .01

Dry etching of ZnO thin film using a $CF_4$ mixed by Ar

Kim ,  Do-Young ,  Kim 외 1명

한국정보디스플레이학회 International Meeting

2009 .01

The Dry Etching of TiN Thin Films Using Inductively Coupled CF4/Ar Plasma

우종창 ,  최창욱 ,  주영희 외 2명

Transactions on Electrical and Electronic Materials

2013 .01

DRY ETCHING TECHNOLOGY

Takafumi Tokunaga

ICVC : International Conference on VLSI and CAD

1995 .01

Characteristics of Ag Etching using Inductively Coupled Halogen-based Plasmas

Pa ,  k ,  Sang-Duk 외 10명

한국정보디스플레이학회 International Meeting

2002 .01

The Dry Etching Characteristics of TiO2 Thin Films in N2/CF4/Ar Plasma

최경록 ,  김창일 ,  우종창 외 2명

Transactions on Electrical and Electronic Materials

2014 .01

폴리비닐알코올 필름 표면특성에 있어 $CF_{4}$ 플라즈마 처리의 영향

이재호

한국섬유공학회지

2005 .01

Optimized Process Analysis of SiO₂ etch using CFD Simulation

Han-Bit Kim ,  Tae-Ho shin ,  Byeong-Gwan ji 외 7명

대한전자공학회 학술대회

2017 .01

Study on the surface characteristics of parylene-C films in inductively coupled $O_2/CF_4$ gas plasma

Ham ,  Yong-Hyun ,  Baek 외 12명

한국정보디스플레이학회 International Meeting

2009 .01

Plasma etching behavior of RE-Si-Al-O glass (RE: Y, La, Gd)

이정기 ,  황성진 ,  이성민 외 1명

한국재료학회 학술발표대회

2010 .01

O2+CF4 저압플라즈마를 이용한 감광막 식각특성 연구 ( A Study on the Resist Etching Characteristics in the Low Pressure O2+CF4 Plasma )

최영규 ,  강진영 ,  마동성

대한전자공학회 학술대회

1987 .11