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Inductively Coupled Plasma Etcher를 이용한 Pt 박막의 식각 ( Inductively Coupled Plasma Etching of Pt Thin Films )
대한전자공학회 학술대회
1996 .07
STRUCTURE AND MAGNETIC PROPERTIES OF ($Co_{1-x}Fe_{x}$)Pt THIN FILMS
한국재료학회 학술발표대회
1998 .01
초미세 공정에 적합한 ICP(Inductive Coupled Plasma) 식각 알고리즘 개발 및 3차원 식각 모의실험기 개발
대한전자공학회 학술대회
1999 .06
유도 결합 BCI₃/CI₂ 플라즈마내에서 Pt 박막의 건식 식각
대한전자공학회 학술대회
1998 .06
유도 결합 BCI3 / CI2 플라즈마내에서 Pt 박막의 건식 식각 ( Dry Etching of Pt Thin Film in Inductive Coupled BCI3 / CI2 Plasmas )
대한전자공학회 학술대회
1998 .07
IMDS에 의한 Pt 박막의 건식식각 공정에 관한 연구
한국재료학회 학술발표대회
1996 .01
Pt / Pb ( Zr , Ti ) O3 / Pt Capacitor에 가해지는 Plasma Etching Damage에 관한 연구
대한전자공학회 학술대회
1998 .01
Pt 상부 전극 증착 조건이 Pt/PZT/Pt Capacitor의 전기적 특성에 미치는 영향
한국재료학회 학술발표대회
1998 .01
EFFECT OF ANNEALING ATMOSPHERE ON THE DELAMINATION OF Pt LAYER IN SiO$_2$/Pt/PZT/Pt STRUCTURE
한국재료학회 학술발표대회
1998 .01
SiO2 식각 특성 개선을 위한 E-ICP와 ICP 식각 비교
대한전자공학회 학술대회
1999 .11
유도결합형 플라즈마를 이용한 백금 박막 식각 특성에 관한 연구
한국표면공학회 학술발표회 초록집
1998 .05
132 ㎸ 초정밀 전압변성기(PT) 개발 및 안정도 평가
대한전기학회 학술대회 논문집
2009 .07
E-ICP에 의한 산화막 식각특성
대한전자공학회 학술대회
2000 .06
쌍극성표동 효과와 이체충돌효과를 고려한 ICP(Inductive Coupled Plasma) 3차원 식각
대한전자공학회 학술대회
1999 .11
Cl2 / Ar 유도 결합 플라즈마에서 Pt 박막 식각시 N2 가스 첨가 효과 ( The Effect of Additive N2 Gas In Pt Film Etching Using Inductively Coupled Cl2 / Ar Plasmas )
전자공학회논문지-SD
2000 .07
$Al_{2}O_{3}$-Pt 박막촉매 형성 및 구조에 관한 연구
한국재료학회 학술발표대회
1994 .01
유도 결합 플라즈마를 이용한 Y₂O₃ 박막의 식각 특성 연구 ( A Study on Etch Characteristics of Y₂O₃ Thin Films in Inductively Coupled Plasma )
전자공학회논문지-SD
2001 .09
Cl2 / Ar 가스 플라즈마에 O2 첨가에 따른 Pt 식각 특성 연구 ( The Study on the Etching Characteristics of Pt Thin Film by O2 Addition to Cl2 / Ar Gas Plasma )
전자공학회논문지-D
1999 .05
C₄F₈/O₂ 공정기체와 E-ICP를 이용한 산화막 식각
대한전자공학회 학술대회
2001 .06
The Electrical Properties and Resonant Frequency of Pt/Pb(Zr, Ti)O₃/Pt Films
대한전기학회 학술대회 논문집
2004 .07
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