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Dry Etcher에서 ESC의 중요성
한국진공학회 학술발표회초록집
2017 .08
ICP dry etcher에서 세라믹 리드의 온도 조절에 의한 폴리머 증착 양상 수치 모델링
한국진공학회 학술발표회초록집
2017 .08
Newly Designed Ion Beam Etcher with High Etch Rate
Journal of Magnetics
2015 .12
반도체 식각 공정에서 분압 측정 및 활용
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .08
Correlation between Coil Configurations and Discharge Characteristics of a Magnetized Inductively Coupled Plasma
Journal of Magnetics
2016 .06
300 mm wafer 용 ICP dry etcher의 foreline clamp 파손에 따른 터보 분자 펌프의 파괴 양상 분석
한국진공학회 학술발표회초록집
2015 .02
Magnetic Flux Density Distributions and Discharge Characteristics of a Newly Designed Magnetized Inductively Coupled Plasma
Journal of Magnetics
2015 .12
Numerical Simulation : Effects of Gas Flow and Heat Transfer on Polymer Deposition in a Plasma Dry Etcher
Applied Science and Convergence Technology
2017 .11
Machine Learning-Based Prediction of Atomic Layer Control for MoS² via Reactive Ion Etcher
Applied Science and Convergence Technology
2023 .09
Numerical Simulation : Effects of Gas Flow and Rf Current Direction on Plasma Uniformity in an ICP Dry Etcher
Applied Science and Convergence Technology
2017 .11
Applications of fluid based plasma simulation : dry etch
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .02
Simultaneous quantification of 60 elements associated with dried red peppers by ICP-OES and ICP-MS for routine analysis
한국분석과학회 학술대회
2022 .05
Numerical or analog modeling study
지질학회지
2018 .12
Numerical modeling for large area plasma source for materials processing
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .08
건조방법에 따른 한련초 잎의 영양성분 및 항산화활성 비교
한국지역사회생활과학회지
2018 .02
Rare Earth Elements analysis in monazite using Na2O2 sintering and by ICP-MS and ICP-OES
한국분석과학회 학술대회
2015 .11
High-Temperature Drying of Bamboo Tubes Pretreated with Polyethylen Glycol Solution
목재공학(Journal of the Korean Wood Science and Technology)
2017 .01
Diagnostics and modeling of inductively coupled methane plasma using the electrostatic probe and plasma simulations
한국진공학회 학술발표회초록집
2017 .02
ICP-MS를 이용한 사료 내 중금속 분석방법 개발
한국분석과학회 학술대회
2023 .05
A Destruction Pattern Analysis of a Turbo-Molecular Pump According to the Foreline Clamp Damage in an ICP Dry Etcher for 300 mm Wafers
Applied Science and Convergence Technology
2015 .03
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