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300 mm wafer용 ICP dry etcher의 수치 모델링
한국진공학회 학술발표회초록집
2015 .02
Dry Etcher에서 ESC의 중요성
한국진공학회 학술발표회초록집
2017 .08
ICP dry etcher에서 세라믹 리드의 온도 조절에 의한 폴리머 증착 양상 수치 모델링
한국진공학회 학술발표회초록집
2017 .08
CFD-ACE+를 사용한 AMAT DPS II와 Sym3의 SiO₂ 식각 균일도 비교
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .08
Numerical modeling of linear array of internal ICP systems by CFD-ACE+
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .02
CFD-ACE+를 이용한 Gas Flow Sputtering 공정 해석
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .02
Plasma 모델링과 시뮬레이션을 위한 웹기반 Plasma Chemistry 데이터베이스
한국진공학회 학술발표회초록집
2019 .08
플라즈마 식각 공정 챔버내의 부품 식각률 감소를 위한 전처리 기술
한국진공학회 학술발표회초록집
2017 .02
ICP 식각 공정에서의 컨택홀의 기울어진 식각 프로파일
한국진공학회 학술발표회초록집
2017 .08
저손상 식각 기술을 이용한 초미세 패턴의 식각 프로파일 향상에 관한 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .08
유체 시뮬레이션을 이용한 미세 식각 구조물 하부 공정 부산물의 배기 특성에 대한 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .02
라디칼 흡착을 사용한 원자층 식각 공정
한국진공학회 학술발표회초록집
2021 .02
Floating electrode를 갖는 플라즈마 시스템의 수치 모델링
한국진공학회 학술발표회초록집
2015 .08
C4F8/Ar 플라즈마를 이용한 SiO2 원자층 식각에서 활성종 구성 비율에 따른 식각 특성 분석
한국진공학회 학술발표회초록집
2019 .08
Plasma 시스템을 이용한 MoS2 나노박막의 합성 및 식각
한국진공학회 학술발표회초록집
2015 .02
Newly Designed Ion Beam Etcher with High Etch Rate
Journal of Magnetics
2015 .12
Applications of fluid based plasma simulation : dry etch
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .02
Correlation between Coil Configurations and Discharge Characteristics of a Magnetized Inductively Coupled Plasma
Journal of Magnetics
2016 .06
축전 결합형 C₄F₈/Ar 플라즈마 내에서 웨이퍼 두께에 따른 쉬스 렌즈 효과 분석
한국진공학회 학술발표회초록집
2021 .02
유도결합 플라즈마 식각 장치에서 소스 및 바이어스 전력에 따른 식각 속도 분포 변화
한국진공학회 학술발표회초록집
2021 .02
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