Dry-developable Photoresist

김진백 ,  김현우 ,  김재영 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1997 .10

Water Developable Negative Photoresists Having 4- Styrenesulfonic Acid Sodium Salt Units

채규호 ,  강진구

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1994 .04

A Study on method of designing developable surface

Ji-xin YANG ,  Zhe LIU ,  Jian LIU

한국멀티미디어학회 국제학술대회

2006 .07

Base Developable Photoresists Containing N - Hydroxyphthalimide Sulfonate Groups

채규호 ,  오약전 ,  장지영 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1993 .04

The effect of water-contact and evaporation on the roughness of photoresist for immersion lithography

안성일 ,  김재현 ,  진왕철

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2006 .04

Photoresist Technology

김진백

대한전자공학회 워크샵

1989 .01

A Novel Positive Photoresists Based on Silicon-containing Methacrylate for 193 nm Lithography

김성수 ,  김일호 ,  김용렬 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2000 .10

Advanced Photoresist Based on Silicon-containing Methacrylate for 193nm Lithography

김경철 ,  김일호 ,  김응렬 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1999 .10

Synthesis of Imide Monomers for Application to Organic Photosensitive Interdielectric Layer

Kwon ,  Hyeok-Yong ,  Vu 외 6명

한국정보디스플레이학회 International Meeting

2008 .01

Lithographic Performance of a Dry-developable Photoresist Based on the Methacrylate Polymer with 2-Trimethylsilyl-2-propyl ester Protecting Group

김진백 ,  김현우

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1999 .04

Photolithography Process of Organic Thin Film with A New Water Soluble Photoresist

Kim ,  Kwang-Hyun ,  Song 외 1명

한국정보디스플레이학회 International Meeting

2004 .01

Silicon Containing Photoresists for ArF Excimer Laser Lithography

Young Dae Kim ,  Sang Jin Pa ,  k 외 4명

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

Nanoshrinkable Photoresists for Next Generation Lithography

Jae-Hak Choi ,  Ramak ,  ishnan Ganesan 외 4명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2006 .10

Photoresist for ArF Immersion Lithography, Applicable for the Reflow Process

Ji Young Song ,  Dong Chul Seo ,  Seung Duk Cho 외 8명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2006 .10

Fabrication of 3D Microstructures with Single uv Lithography Step

Man Hee Han ,  Woon Seob Lee ,  Sung-Keun Lee 외 1명

JOURNAL OF SEMICONDUCTOR TECHNOLOGY AND SCIENCE

2002 .12

정보기능용 고분자 ( Photoresist )

김진백

고분자 과학과 기술

1990 .11

Advanced Chemically Amplified Photoresist Based on Silicon-containing Methacrylate for 193nm Lithography

김일호 ,  김경철 ,  김응렬 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2000 .04

Ellipsometry를 이용한 193 nm photoresist에서의 물의 흡수 연구

이형주 ,  이정환 ,  서주빈 외 2명

반도체및디스플레이장비학회지

2006 .01

Chemically Amplified Silicon-containing Positive Photoresists for DUV Lithography

박상진 ,  이해원

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1998 .10

Polymeric Materials for Extreme UV Lithography

김재현 ,  이재우 ,  오승근 외 2명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2011 .04