Dry-developable Photoresist

김진백 ,  김현우 ,  김재영 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1997 .10

Chemically Amplified Resist based on the Norbornene Polymer with 2-Trimethylsilyl-2-propyl Ester Protecting Group

김진백 ,  강재성

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1999 .10

Non-Photoresist Lithographic Materials: From Assisting to Enabling New Processes

Ralph R. Dammel

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2011 .04

The Novel Water Developable Photoresist for Deep UV Lithography

정민호 ,  김진백

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1996 .04

Base Developable Photoresists Containing N - Hydroxyphthalimide Sulfonate Groups

채규호 ,  오약전 ,  장지영 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1993 .04

A Study on method of designing developable surface

Ji-xin YANG ,  Zhe LIU ,  Jian LIU

한국멀티미디어학회 국제학술대회

2006 .07

Water Developable Negative Photoresists Having 4- Styrenesulfonic Acid Sodium Salt Units

채규호 ,  강진구

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1994 .04

A Novel Positive Photoresists Based on Silicon-containing Methacrylate for 193 nm Lithography

김성수 ,  김일호 ,  김용렬 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2000 .10

Synthesis of Methacrylate Polymers Substituted with Cholate Derivatives with Polar Spacer and Its Lithographic Application

김진백 ,  오태환

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2001 .10

Photoresist Technology

김진백

대한전자공학회 워크샵

1989 .01

Advanced Photoresist Based on Silicon-containing Methacrylate for 193nm Lithography

김경철 ,  김일호 ,  김응렬 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1999 .10

LITHOGRAPHIC MATERIALS AND PROCESSES FOR VLSI

Michael Hatzakis

ICVC : International Conference on VLSI and CAD

1989 .01

Relationship between polymer structure and gas permeation properties in modified polysulfones with trimethylsilyl side groups

이귀종 ,  M. D. Guive ,  조재영 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2002 .04

Nanoscale Lithography of Poly (1.30bis (trimethylsilyl) isopropyl methacrylate-metharylic acid-methyl methacrylate) by Using Atomic Force Microscope

오영 ,  김응렬 ,  이해원

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1998 .10

Synthesis and Lithographic characterization of 1.4-dioxaspiro [4.7] dodecane-2-methyl methacrylate

김진백 ,  장지현 ,  박종진

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1998 .10

환경친화적인 초임계 이산화 탄소 공정을 이용한 포토레지스트의 합성

허완수 ,  이상원 ,  박혜진 외 3명

폴리머

2004 .11

Advanced Chemically Amplified Photoresist Based on Silicon-containing Methacrylate for 193nm Lithography

김일호 ,  김경철 ,  김응렬 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2000 .04

Photodegradation of Poly ( Methyl Methacrylate - co - Dione Monooxime Methacrylate ) as Deep UV Photoresists

채규호 ,  황인동 ,  최민호

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1990 .04

Evaluation of Lithographic Performance of X-Ray Stepper XS-1

T. Taguchi ,  S. Mitsui ,  Y. Tanaka 외 14명

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

Spray-coating of Poly(3-[tris(trimethylsilyloxy)silyl]-propyl methacrylate-co-methyl methacrylate) for Fabrications of Superhydrophobic Surface

김남현 ,  황하수 ,  최경호 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2009 .10