The Novel Water Developable Photoresist for Deep UV Lithography

정민호 ,  김진백

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1996 .04

A Study on method of designing developable surface

Ji-xin YANG ,  Zhe LIU ,  Jian LIU

한국멀티미디어학회 국제학술대회

2006 .07

Base Developable Photoresists Containing N - Hydroxyphthalimide Sulfonate Groups

채규호 ,  오약전 ,  장지영 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1993 .04

Water Developable Negative Photoresists Having 4- Styrenesulfonic Acid Sodium Salt Units

채규호 ,  강진구

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1994 .04

Lithographic Performance of a Dry-developable Photoresist Based on the Methacrylate Polymer with 2-Trimethylsilyl-2-propyl ester Protecting Group

김진백 ,  김현우

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1999 .04

Photoresist Technology

김진백

대한전자공학회 워크샵

1989 .01

정보기능용 고분자 ( Photoresist )

김진백

고분자 과학과 기술

1990 .11

PR(Photoresist) 분사량 측정에 관한 연구

신동원 ,  이성영 ,  김상식 외 2명

대한전자공학회 학술대회

2008 .06

Surface Approximation Using Developable Strips with Global Error Bounds

Yong-Jin Liu ,  Yu-Kun Lai ,  Shi-Min Hu

한국CDE학회 국제학술발표 논문집

2007 .08

Photoresists for Interface and Thin Layer Imaging Processes

김진백

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2011 .04

Synthesis of Imide Monomers for Application to Organic Photosensitive Interdielectric Layer

Kwon ,  Hyeok-Yong ,  Vu 외 6명

한국정보디스플레이학회 International Meeting

2008 .01

Negative Thick Photoresist를 이용한 100㎛ 높이의 금속 구조물의 제작에 관한 연구

장현기 ,  김용권

대한전기학회 학술대회 논문집

1998 .07

A Novel 193 nm Photoresist Containing Silicon Compound

손민석 ,  강영종 ,  김응렬 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2001 .04

Effects of Fluorine for Photoresist Properties

김진백 ,  김영우 ,  권영길 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2002 .10

Development of Novel Photoresist Removal Process using Multi-phase Plasma

Tatsuo Ishijima ,  Kouhei Nosaka ,  Yousuke Goto 외 5명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2013 .11

Photoresist을 이용한 Thin relief 위상형 홀로그램 격자에 관한 연구 ( A Study on Thin Relief Phase Holographic Grating Using Photoresist )

신광용 ,  최도형 ,  김남 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1987 .07

Photoresist을 이용한 Thin relief 위상형 홀로그램 격자에 관한 연구

신광용 ,  최도형 ,  김남 외 1명

대한전기학회 학술대회 논문집

1987 .07

Photolithography Process of Organic Thin Film with A New Water Soluble Photoresist

Kim ,  Kwang-Hyun ,  Song 외 1명

한국정보디스플레이학회 International Meeting

2004 .01

synthesis of Positive-type Photoresist using PBO with various end groups

박주현 ,  윤정 ,  신요섭 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2019 .04

A Study on Negative-type Photosensitive Polyimide Precursor Developable with Aqueous Alkaline Solution

심종천 ,  최길영 ,  김정수 외 3명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2002 .04