지원사업
학술연구/단체지원/교육 등 연구자 활동을 지속하도록 DBpia가 지원하고 있어요.
커뮤니티
연구자들이 자신의 연구와 전문성을 널리 알리고, 새로운 협력의 기회를 만들 수 있는 네트워킹 공간이에요.
논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술대회자료
- 저자정보
- 발행연도
- 2004.1
- 수록면
- 1,038 - 1,039 (2page)
이용수
초록· 키워드
오류제보하기
We developed a new photoresist which was composed of polyaniline, uv-curing agent, N-methyl-2- pyrrolidine (NMP) and N-Butyl alcohol (BuOH) as solution. The photoresist is characterized by the capability of being developed in water. We successfully patterned pentacene thin film, which was vulnerable to organic solvent and thus could not be patterned by the conventional photolithography process, with the water soluble photoresist and the minimum feature size was found to be 2um.
목차
등록된 정보가 없습니다.
참고문헌 (0)
참고문헌 신청함께 읽어보면 좋을 논문
논문 유사도에 따라 DBpia 가 추천하는 논문입니다. 함께 보면 좋을 연관 논문을 확인해보세요!
-
Photoresist Technology
대한전자공학회 워크샵
1989 .01
-
수용성 포토레지스트 와 이를 이용한 유기 박막의 photolithography 공정 연구
대한전자공학회 학술대회
2004 .06
-
정보기능용 고분자 ( Photoresist )
고분자 과학과 기술
1990 .11
-
Novel Fabrication of Electroplated 3D Micro-Coils Using 3D Photolithography of Thick Photoresist
International Conference on Electronics, Informations and Communications
1998 .01
-
Photoresists for Interface and Thin Layer Imaging Processes
한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집
2011 .04
-
PR(Photoresist) 분사량 측정에 관한 연구
대한전자공학회 학술대회
2008 .06
-
Fabrication of Multilevel layers for Optical Printed Circuit Board by Modified Two-step Photolithography
ICEIC : International Conference on Electronics, Informations and Communications
2008 .06
-
Negative Thick Photoresist를 이용한 100㎛ 높이의 금속 구조물의 제작에 관한 연구
대한전기학회 학술대회 논문집
1998 .07
-
O₂와 N₂ 플라즈마를 이용한 감광제의 패턴 축소 연구
대한전자공학회 학술대회
2009 .07
-
Development of Novel Photoresist Removal Process using Multi-phase Plasma
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2013 .11
-
A Novel 193 nm Photoresist Containing Silicon Compound
한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집
2001 .04
-
Effects of Fluorine for Photoresist Properties
한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집
2002 .10
-
Fabrication of multilayer patterns using adaptive two-step photolithography
ICEIC : International Conference on Electronics, Informations and Communications
2010 .06
-
Photoresist을 이용한 Thin relief 위상형 홀로그램 격자에 관한 연구 ( A Study on Thin Relief Phase Holographic Grating Using Photoresist )
대한전자공학회 학술대회
1987 .07
-
Photoresist을 이용한 Thin relief 위상형 홀로그램 격자에 관한 연구
대한전기학회 학술대회 논문집
1987 .07
-
The Novel Water Developable Photoresist for Deep UV Lithography
한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집
1996 .04
-
Synthesis of Imide Monomers for Application to Organic Photosensitive Interdielectric Layer
한국정보디스플레이학회 International Meeting
2008 .01
-
Photoresist-derived carbon patterns for transparent electric heating devices
한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집
2018 .04
-
synthesis of Positive-type Photoresist using PBO with various end groups
한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집
2019 .04
-
Dry-developable Photoresist
한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집
1997 .10
이 논문의 저자 정보
최근 본 자료
댓글(0)
0