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저자정보
Kwon, Hyeok-Yong (Department of Sensor & Display, Kyungpook National University) Vu, Quang Hung (Department of Polymer Science, Kyungpook National University) Lee, Yun-Soo (Advanced Display Manufacturing Research Center, Kyungpook National University) Park, Lee-Soon (Department of Polymer Science, Kyungpook National University)
저널정보
한국정보디스플레이학회 한국정보디스플레이학회 International Meeting 한국정보디스플레이학회 2008년도 International Meeting on Information Display
발행연도
2008.1
수록면
816 - 819 (4page)

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A negative photoresist formulation was developed utilizing synthesized UV monomers containing imide linkage, photoinitiator, UV oligomer, and alkali developable polymer matrix. It was found that via-holes with good resolution, high transmittance and thermal resistance could be obtained by photolithographic process utilizing the negative-type photoresist formulations.
#TFT-LCD #photolithography #negative type #photoresist #polyimide

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