BCl 기반의 혼합가스들을 이용한 InP 고밀도 유도결합 플라즈마 식각

조관식 ,  임완태 ,  백인규 외 2명

한국재료학회지

2003 .01

Plasma Etching for saw damage removal Using RF DBD

Min Guk Ko ,  Jong Guen Yang ,  Heon Ju Lee

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2013 .11

The Dry Etching Properties on TiN Thin Film Using an N_2/BCl_3/Ar Inductively Coupled Plasma

Jong-Chang Woo ,  주영희 ,  Jung-Soo Pa 외 2명

Transactions on Electrical and Electronic Materials

2011 .01

Direct Wafer Bonding법에 의한 InP 기판과 $\textrm{Si}_3\textrm{N}_4$/InP의 접합특성

김선운 ,  신동석 ,  이정용 외 1명

한국재료학회지

1998 .01

Dry Etching of Al2O3 Thin Films in O2/BCl3/Ar Inductively Coupled Plasma

Xeng Yang ,  우종창 ,  Doo-Seung Um 외 1명

Transactions on Electrical and Electronic Materials

2010 .01

( 100 ) 면 InP 결정 습식 식각 특성 ( Wet Etching Properties of ( 100 ) Surface InP Crystal )

임우택 ,  김우진 ,  김재영 외 3명

대한전자공학회 학술대회

1991 .11

The Dry Etching Properties of ZnO Thin Film in Cl2/BCl3/Ar Plasma

우종창 ,  김창일

Transactions on Electrical and Electronic Materials

2010 .01

The study of silicon etching using the high density hollow cathode plasma system

Yoo ,  Jin-Soo ,  Lee 외 7명

한국정보디스플레이학회 International Meeting

2003 .01

나노 반도체 소자를 위한 펄스 플라즈마 식각 기술

양경채 ,  박성우 ,  신태호 외 1명

한국표면공학회지

2015 .12

CH₄ 플라즈마에 따른 TiN 박막 표면의 식각특성 연구

우종창 ,  엄두승 ,  김관하 외 2명

한국표면공학회지

2008 .10

Effects of Pulsating RF Bias Power on Deep Si Via Etching

Seung-Hwan Lee ,  Young-Dae Lim ,  Won-Jong Yoo 외 3명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2008 .06

Optimized Process Analysis of SiO₂ etch using CFD Simulation

Han-Bit Kim ,  Tae-Ho shin ,  Byeong-Gwan ji 외 7명

대한전자공학회 학술대회

2017 .01

The Dry Etching of TiN Thin Films Using Inductively Coupled CF4/Ar Plasma

우종창 ,  최창욱 ,  주영희 외 2명

Transactions on Electrical and Electronic Materials

2013 .01

InP/InGaAsP 광자결정 구조 제작을 위한 건식 식각 특성

이지면

전기전자재료학회논문지

2004 .01

Understanding of my etching of polycarbonate based on $O_2$ plasmas

주영우 ,  박연현 ,  노호섭 외 5명

한국재료학회 학술발표대회

2007 .01

Plasma etching behavior of RE-Si-Al-O glass (RE: Y, La, Gd)

이정기 ,  황성진 ,  이성민 외 1명

한국재료학회 학술발표대회

2010 .01

Surface Analysis of Fluorine-Plasma Etched Y-Si-Al-O-N Oxynitride Glasses

Lee ,  Jung-Ki ,  Hwang 외 5명

한국재료학회 학술발표대회

2009 .01

The Dry Etching Characteristics of TiO2 Thin Films in N2/CF4/Ar Plasma

최경록 ,  김창일 ,  우종창 외 2명

Transactions on Electrical and Electronic Materials

2014 .01

실험계획법에 의한 $CF_4/O_2$ 플라즈마 에칭공정의 최적화에 관한 연구

최만성 ,  김광선

반도체및디스플레이장비학회지

2009 .01

플라즈마 식각 조건이 게이트 산화막의 손상에 미치는 영향

김정호 ,  이석현 ,  신기수 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1994 .07