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다층 RIE Electrode를 이용한 아크릴의 O/N 플라즈마 건식 식각
한국재료학회지
2007 .01
Plasma etching behavior of RE-Si-Al-O glass (RE: Y, La, Gd)
한국재료학회 학술발표대회
2010 .01
다층 RIE Electodes를 이용한 아크릴의 $O_2/N_2$ Plasma Etching
한국재료학회 학술발표대회
2007 .01
($Ar+N_2$)분위기 중에 제작된 Fe-B-Si-N 합금 박막의 연자기적 성질
한국재료학회 학술발표대회
1996 .01
나노 반도체 소자를 위한 펄스 플라즈마 식각 기술
한국표면공학회지
2015 .12
Surface Analysis of Fluorine-Plasma Etched Y-Si-Al-O-N Oxynitride Glasses
한국재료학회 학술발표대회
2009 .01
실험계획법에 의한 $CF_4/O_2$ 플라즈마 에칭공정의 최적화에 관한 연구
반도체및디스플레이장비학회지
2009 .01
Investigation of Plasma Etching Properties of Polymeric Materials Used for Packaging Application
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2008 .06
Plasma and Reactive Ion Etching
대한전자공학회 단기강좌
1983 .01
Etching Effect of Solution Plasma on Gold Nanoparticles
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2008 .06
Dependence of cation ratio in Oxynitride Glasses on the plasma etching rate
한국재료학회 학술발표대회
2009 .01
The study of silicon etching using the high density hollow cathode plasma system
한국정보디스플레이학회 International Meeting
2003 .01
플라즈마 식각 조건이 게이트 산화막의 손상에 미치는 영향 ( Effects of Plasma Etching Parameter on Gate Oxide Damage during Plasma Etching )
대한전자공학회 학술대회
1994 .07
플라즈마 식각 조건이 게이트 산화막의 손상에 미치는 영향
대한전자공학회 학술대회
1994 .07
The effect of plasma treatment of polycarbonate substrate on the adhesion of aluminum oxide film
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2006 .10
Optimized Process Analysis of SiO₂ etch using CFD Simulation
대한전자공학회 학술대회
2017 .01
Fabrication of soluble organic thin film transistor with ammonia ($NH_3$) plasma treatment
한국정보디스플레이학회 International Meeting
2009 .01
Polycarbonate의 결정화 거동
한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집
2002 .04
O/ Ar 플라즈마 처리에 의해 개질된 폴리카보네이트 기판에서 Cu의 밀착성
한국재료학회지
2002 .01
A Plasma-Etching Process Modeling Via a Polynomial Neural Network
[ETRI] ETRI Journal
2004 .08
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