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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술저널
- 저자정보
- 발행연도
- 2004.1
- 수록면
- 1,271 - 1,276 (6page)
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Two-dimensionally arrayed nanocolumn lattices were fabricated by using double-exposure laser holographic method. The hexagonal lattice was formed by rotating the sample with 60 degree while the square lattice by 90 degree before the second laser-exposure. The reactive ion etching for a typical time of 30 min using CH4/H2 plasma enhanced the aspect-ratio by more than 1.5 with a slight increase of the bottom width of columns. The etch-damage was observed by photoluminescence (PL) spectroscopy which was removed by the wet chemical etching using HBr/H2O2/H2O solution, leading into the enhanced PL intensities of the PCs.
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/ 1987. / Development of positive photoresists 134 (1) : 148 ~
/ 1990. / Nanostructure fabrication in InP and related compounds 8 (6) : 1357 ~
/ 1993. / Photonic band-gap structures 10 (2) : 283 ~
/ 1993. / Surface recombination in dry etched AlGaAs/GaAs double heterostructures p-i-n mesa diode 62 (1) : 87 ~
/ 1995. / Developed profile of holo- graphically exposed photoresist gratings 34 (4) : 597 ~
/ 1990. / Nanostructure fabrication in InP and related compounds 8 (6) : 1357 ~
/ 1993. / Photonic band-gap structures 10 (2) : 283 ~
/ 1993. / Surface recombination in dry etched AlGaAs/GaAs double heterostructures p-i-n mesa diode 62 (1) : 87 ~
/ 1995. / Developed profile of holo- graphically exposed photoresist gratings 34 (4) : 597 ~
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