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Effects of Cl₂ or SF6 plasma treatments on removal of residue on reactive ion etched Si surface
한국진공학회 학술발표회초록집
1993 .02
O₂/SF₆, O₂/N₂와 O₂/CH₄ 플라즈마를 이용한 폴리카보네이트 건식 식각
Applied Science and Convergence Technology
2008 .01
Dry etching of SiC in inductively coupled $SF_6/O_2$ Plasma
한국결정학회 학술연구발표회
2007 .01
C₃F6O 가스를 이용한 SiO₂에 대한 식각 특성 분석
한국진공학회 학술발표회초록집
2017 .08
Surface Etching of Si(100) by Atomic Hydrogen
한국진공학회 학술발표회초록집
2000 .07
Applications of fluid based plasma simulation : dry etch
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .02
Mechanism of infinite Si₃N₄/ArF PR etch selectivity during CH₂F₂/H₂/Ar dual frequency capacitively coupled plasma etching of Si3N4 layers
한국진공학회 학술발표회초록집
2006 .08
In - situ UPS observation of epitaxial growth, etching and oxidation reactions on Si surfaces at high temperatures under a reactive gas atmosphere
한국진공학회 학술발표회초록집
1995 .02
Investigation of surface reaction mechanisms on etch of AZO thin films in high density plasma
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .08
Si Deep Etching Process Study for Fine Pitch Probe Unit
한국진공학회 학술발표회초록집
2012 .02
SF6-Free 차단부의 대전류 아크 플라즈마 전산해석
한국진공학회 학술발표회초록집
2019 .08
MoS2 layer etching using CF4 plasma and H2S plasma treatment
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .02
Real-Time Small Exposed Area SiO₂ Films Thickness Monitoring in Plasma Etching Using Plasma Impedance Monitoring with Modified Principal Component Analysis
한국진공학회 학술발표회초록집
2013 .02
Characteristics of SiO₂ Etching in a C4F8/Ar/O₂ pulse modulation capacitively coupled plasma
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .02
Plasma Etching Process based on Real-time Monitoring of Radical Density and Substrate Temperature
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .02
In-situ PEALD process monitoring using high-speed optical plasma monitoring system
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .08
Oxygen Plasma Characterization Analysis for Plasma Etch Process
동굴
2007 .01
Si Deep Etching Process for MEMS Probe Card and Unit
한국진공학회 학술발표회초록집
2008 .08
LCD 공정용 C₃F₆ 가스를 이용한 Si₃N₄박막 식각공정 및 배출가스에 관한 연구
Applied Science and Convergence Technology
2012 .07
Plasma Dry Etching 방법에 의한 Wafer Backside Etch 특성 평가
한국진공학회 학술발표회초록집
2009 .08
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