지원사업
학술연구/단체지원/교육 등 연구자 활동을 지속하도록 DBpia가 지원하고 있어요.
커뮤니티
연구자들이 자신의 연구와 전문성을 널리 알리고, 새로운 협력의 기회를 만들 수 있는 네트워킹 공간이에요.
이용수
등록된 정보가 없습니다.
논문 유사도에 따라 DBpia 가 추천하는 논문입니다. 함께 보면 좋을 연관 논문을 확인해보세요!
Epitaxial growth of Ge on Si(114) - 2×1
한국진공학회 학술발표회초록집
2005 .02
Epitaxial Ag Film Growth on Si(100)
한국진공학회 학술발표회초록집
1997 .07
Study on deep Si etching mechanism using in-situ surface temperature monitoring in SF₆/O₂ plasma
한국진공학회 학술발표회초록집
2010 .02
In - situ solid phase epitaxial growth of C49 and C54 - TiSi₂ on the Si(111) - 7×7 substrate
한국진공학회 학술발표회초록집
1994 .02
Epitaxial growth of Si film on CeO₂ / YSZ / Si(111)
한국진공학회 학술발표회초록집
2000 .07
Growth Temperature Dependent Magnetic Properties in Epitaxial Co Thin Films
한국자기학회 학술연구발표회 논문개요집
2012 .11
The effects of repeated chemical etching on the Si(111) surface : Shiraki oxidation
한국진공학회 학술발표회초록집
1992 .07
Structural, magnetic and transport behavior of SrRu0.7Fe0.3O₃ epitaxial thin film
한국자기학회 학술연구발표회 논문개요집
2017 .05
In-situ Growth of Epitaxial PbVO3 Thin Films under Reduction Atmosphere
한국진공학회 학술발표회초록집
2014 .02
Surface Etching of Si(100) by Atomic Hydrogen
한국진공학회 학술발표회초록집
2000 .07
Synchrotron X - ray scattering study on oxidation of epitaxial AlN films on Sapphire(0001), Si(001), Si(111) substrates
한국진공학회 학술발표회초록집
2001 .02
Reactive molecular dynamics study of very initial dry oxidation of Si(001)
한국진공학회 학술발표회초록집
2011 .02
Epitaxial Iron - Silicides on Si(100)
한국진공학회 학술발표회초록집
1995 .02
Strain Decreasing by In - situ Boron Doping in SiGe Epitaxial Growth
한국진공학회 학술발표회초록집
2003 .08
The Influence of He flow on the Si etching procedure using chlorine gas
한국진공학회 학술발표회초록집
1999 .07
Morin Transition Temperature Control of Antiferromagnetic α-Fe2O3 Films with Epitaxial Strains
한국자기학회 학술연구발표회 논문개요집
2011 .12
코발트 훼라이트 에피탁시얼 산화철의 생성과 자기특성(Ⅰ)
한국자기학회지
1992 .02
Effects of Cl₂ or SF6 plasma treatments on removal of residue on reactive ion etched Si surface
한국진공학회 학술발표회초록집
1993 .02
LCD 공정용 C₃F₆ 가스를 이용한 Si₃N₄박막 식각공정 및 배출가스에 관한 연구
Applied Science and Convergence Technology
2012 .07
Surface Morphological Evolution during Chemical Dry Etching of Crystalline Si using F radicals and NO Gas
한국진공학회 학술발표회초록집
2009 .08
0