Oxygen Plasma Characterization Analysis for Plasma Etch Process

Park, Jin-Su; Hong, Sang-Jeen

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자료유형: 학술저널

저자정보: Park, Jin-Su (Dept. of Electronics Eng., Myongji Univ.) Hong, Sang-Jeen (Dept. of Electronics Eng., Myongji Univ.)

저널정보: 한국동굴학회 동굴 Journal of the speleological society of korea 제78권

발행연도: 2007.1

수록면: 29 - 31 (3page)

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This paper is devoted to a study of the characterization of the plasma state. For the purpose of monitoring plasma condition, we experiment on reactive ion etching (RIE) process. Without actual etch process, generated oxygen plasma, measurement of plasma emission intensity. Changing plasma process parameters, oxygen flow, RF power and chamber pressure have controlled. Using the optical emission spectroscopy (OES), we conform to the unique oxygen wavelength (777nm), the most powerful intensity region of the designated range. Increase of RF power and chamber pressure, emission intensity is increased. oxygen flow is not affect to emission intensity.

#plasma #etch process #reactive ion etching #optical emission spectroscopy

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Park, Jin-Su

소속기관 Dept. of Electronics Eng., Myongji Univ.

주요연구분야 자연과학 > 지구과학 > 지질학

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Hong, Sang-Jeen

소속기관 Dept. of Information Eng., Myongji Univ.

주요연구분야 자연과학 > 지구과학 > 지질학

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