Study on deep Si etching mechanism using in-situ surface temperature monitoring in SF₆/O₂ plasma

임영대 ,  이승환 ,  유원종

한국진공학회 학술발표회초록집

2010 .02

Study on the Residue Film Induced by Magnetically - Enhanced Reactive Ion Etching of Al(Si, Cu) Film Using the Mixture of BCl₃, Cl₂, and N₂ Gases

Sun Jin Yun ,  Kwang-Ho Kwon ,  Chang-Il Kim 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

1996 .02

Silicon trench etching using inductively coupled Cl₂/ O₂ and Cl₂/ N₂ plasmas

Hyeon-Soo Kim ,  Young-Jun Lee ,  Geun-Young Yeom

Journal of Korean Vacuum Science & Technology

1998 .10

고밀도 플라즈마를 사용한 Cl₂ / Poly - Si 건식 식각

이휘건

Applied Science and Convergence Technology

1999 .02

Reactive ion etching of GaAs, AlGaAs, and InGaP in Cl₂and CCl₂F₂ plasmas with Ar and H₂ addition

Jae Su Yu ,  Seong Ju Bae ,  Jin Dong Song 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2001 .07

Etch Characteristics of FePt Magnetic Thin Films Using Inductively Coupled Plasma Reactive Ion Etching

Eun Ho Kim ,  Yu Bin Xiao ,  Hwa Won Lee 외 1명

한국자기학회 학술연구발표회 논문개요집

2010 .12

LCD 공정용 C₃F₆ 가스를 이용한 Si₃N₄박막 식각공정 및 배출가스에 관한 연구

전성찬 ,  공대영 ,  표대승 외 4명

Applied Science and Convergence Technology

2012 .07

Microfabrication of submicron - size hole for potential field emission and near field optical sensor applications

이주원 ,  최성수 ,  김종우 외 2명

Applied Science and Convergence Technology

2000 .05

Reactive Ion Etching of InP and InGaP using Cl₂ gas with CH₄ and Ar Addition

Jae Su Yu ,  Jin Dong Song ,  Seong Ju Bae 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2001 .02

Removal of polymer residues on graphene films by plasma treatment without damage

Hyeju YUN ,  Daesung JUNG ,  Geonhee LEE 외 4명

한국진공학회 학술발표회초록집

2016 .08

Fabrication of Microwire Arrays for Enhanced Light Trapping Efficiency Using Deep Reactive Ion Etching

황인찬 ,  서관용

한국진공학회 학술발표회초록집

2014 .02

O₂/SF₆, O₂/N₂와 O₂/CH₄ 플라즈마를 이용한 폴리카보네이트 건식 식각

주영우 ,  박연현 ,  노호섭 외 6명

Applied Science and Convergence Technology

2008 .01

High density plasma etching of MgO thin films in Cl₂/Ar gases

Y. B. Xiao ,  E. H. Kim ,  S. M. Kong 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2010 .02

Dry etching of SiC in inductively coupled $SF_6/O_2$ Plasma

Yim ,  Jeong-Hyuk ,  Lee 외 13명

한국결정학회 학술연구발표회

2007 .01

Oxygen Plasma Characterization Analysis for Plasma Etch Process

Pa ,  k ,  Jin-Su 외 2명

동굴

2007 .01

Etching properties of titanium nitride thin films in a O₂/Cl₂/Ar plasma

Wang YIYU ,  Young-Hee JOO ,  Chang-Il KIM

한국진공학회 학술발표회초록집

2016 .08

여윔증 넙치, Paralichthys olivaceus의 증상에 대한 병태생리학적 고찰

김이경 ,  정준범 ,  이무근 외 4명

한국어병학회지

2011 .01

4-크로로-4'-메톡시-2-니트로디페닐아민의 X-선 결정 및 분자구조 결정

남궁해 ,  유재혁 ,  이현미

한국결정학회지

1991 .01

Effects of pulsed inductively coupled Cl₂/Ar plasma for the etching of Si nanostructure

신예지 ,  김교운 ,  김희주 외 4명

한국진공학회 학술발표회초록집

2020 .02